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1. (WO2016114362) FILTRE DE COUPURE PROCHE INFRAROUGE ET DISPOSITIF D'IMAGERIE À SEMI-CONDUCTEURS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/114362    N° de la demande internationale :    PCT/JP2016/051020
Date de publication : 21.07.2016 Date de dépôt international : 14.01.2016
CIB :
G02B 5/22 (2006.01), G02B 5/26 (2006.01), G02B 5/28 (2006.01), H01L 27/14 (2006.01)
Déposants : ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED [JP/JP]; 5-1, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008405 (JP)
Inventeurs : SUGIYAMA Takashi; (JP).
HOSOI Katsumasa; (JP).
KOMORI Atsushi; (JP).
OOI Yoshiharu; (JP).
HASEGAWA Makoto; (JP)
Mandataire : SAKURA PATENT OFFICE, P.C.; 6F Yoshizawa Bldg., 18-14, Uchikanda 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010047 (JP)
Données relatives à la priorité :
2015-005382 14.01.2015 JP
2015-110617 29.05.2015 JP
2015-141205 15.07.2015 JP
2015-210820 27.10.2015 JP
Titre (EN) NEAR-INFRARED CUT FILTER AND SOLID-STATE IMAGING DEVICE
(FR) FILTRE DE COUPURE PROCHE INFRAROUGE ET DISPOSITIF D'IMAGERIE À SEMI-CONDUCTEURS
(JA) 近赤外線カットフィルタおよび固体撮像装置
Abrégé : front page image
(EN)Provided are a near-infrared cut filter having adequate near-infrared shielding characteristics and being capable of reducing or preventing the occurrence of a form not present in an original subject appearing in a taken image in a solid-state imaging device which uses the near-infrared cut filter, and a highly sensitive solid-state imaging device provided with the near-infrared cut filter. A near-infrared cut filter provided with a layered body having a near-infrared absorbent glass substrate and a near-infrared absorbent layer containing a near-infrared absorbent dye and a transparent resin on at least one principal face of the near-infrared absorbent glass substrate, and a dielectric multilayer film formed on at least one principal face of the layered body, the near-infrared cut filter being characterized in that the maximum transmittance at an incidence angle of 31-60 degrees for light having a wavelength of 775-900 nm is 50% or less.
(FR)L'invention concerne un filtre de coupure proche infrarouge ayant des caractéristiques de protection contre le proche infrarouge adéquates et susceptible de réduire ou d'éviter l'apparition d'une forme non présente dans un sujet d'origine apparaissant dans une image prise dans un dispositif d'imagerie à semi-conducteurs qui utilise le filtre de coupure proche infrarouge, et un dispositif d'imagerie à semi-conducteurs hautement sensible doté du filtre proche de coupure proche infrarouge. Le filtre de coupure proche infrarouge est doté d'un corps en couches ayant un substrat en verre absorbant le proche infrarouge et une couche absorbant le proche infrarouge contenant une couleur absorbant le proche infrarouge et une résine transparente sur au moins une surface principale du substrat en verre absorbant le proche infrarouge, ainsi qu'un film multicouches diélectrique formé sur au moins une surface principale du corps en couches, le filtre de coupure proche infrarouge étant caractérisé en ce que le facteur de transmission maximum à un angle d'incidence compris entre 31 et 60 degrés pour la lumière ayant une longueur d'onde comprise entre 775 et 900 nm est inférieur ou égal à 50 %.
(JA)十分な近赤外線遮蔽特性を有するとともに、これを用いた固体撮像装置において、撮像された画像に本来の被写体には存在しなかった像が出現する現象の発生を低減または防止することが可能な近赤外線カットフィルタおよび、これを備えた高感度な固体撮像装置を提供する。近赤外線吸収ガラス基材および、前記近赤外線吸収ガラス基材の少なくとも一方の主面上に、近赤外線吸収色素および透明樹脂を含有する近赤外線吸収層を有する積層体と、前記積層体の少なくとも一方の主面上に形成された誘電体多層膜と、を備える近赤外線カットフィルタであって、波長775~900nmの光に対する、入射角31~60度での最大透過率が50%以下であることを特徴とする近赤外線カットフィルタ。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)