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1. (WO2016112638) DISPOSITIF DE SUPPORT DE SUBSTRAT, PROCÉDÉ DE SUPPORT DE SUBSTRAT ET DISPOSITIF DE SÉCHAGE SOUS VIDE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/112638    N° de la demande internationale :    PCT/CN2015/081732
Date de publication : 21.07.2016 Date de dépôt international : 18.06.2015
CIB :
H01L 21/67 (2006.01), H01L 21/687 (2006.01)
Déposants : BOE TECHNOLOGY GROUP CO., LTD. [CN/CN]; No.10 Jiuxianqiao Rd., Chaoyang District Beijing 100015 (CN).
HEFEI BOE OPTOELECTRONICS TECHNOLOGY CO., LTD. [CN/CN]; No. 2177, Tonglingbei Rd., New Railway Station District Hefei, Anhui 230012 (CN)
Inventeurs : WANG, Man; (CN).
ZHAI, Yuman; (CN)
Mandataire : TEE&HOWE INTELLECTUAL PROPERTY ATTORNEYS; CHEN, Yuan 10th Floor, Tower D, Minsheng Financial Center, 28 Jianguomennei Avenue, Dongcheng District Beijing 100005 (CN)
Données relatives à la priorité :
201510015104.4 12.01.2015 CN
Titre (EN) SUBSTRATE SUPPORTING DEVICE, SUBSTRATE SUPPORTING METHOD AND VACUUM DRYING DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE SUPPORT DE SUBSTRAT, PROCÉDÉ DE SUPPORT DE SUBSTRAT ET DISPOSITIF DE SÉCHAGE SOUS VIDE
(ZH) 基板支撑装置、基板支撑方法以及真空干燥设备
Abrégé : front page image
(EN)A substrate supporting device, supporting method and vacuum drying device, the substrate supporting device comprising: a fastening mechanism (6) and a lifting mechanism (7); the fastening mechanism comprises a platform(61), and a plurality of through holes (62) are provided in the platform, and the lifting mechanism comprises a plurality of plate parts (71) corresponding to the through holes, and the plurality of plate parts can respectively move in the corresponding through holes and form, together with the platform, a supporting surface to support substrates, and the plate parts can move to positions above the corresponding through holes. The present invention enables substrates to be placed on the flat platform during an entire drying process via the coordination of the fixing mechanism and the lifting mechanism. Therefore, compared to the prior art, a contact between a substrate and a substrate supporting device changes from a point contact to a surface contact, thus reducing the risk of inferior display performance of the products. In addition, no adjustment to the supporting device is needed for different product models, thus reducing work load for workers and design difficulty of the device.
(FR)La présente invention concerne un dispositif de support de substrat, un procédé de support de substrat et un dispositif de séchage sous vide, le dispositif de support de substrat comprenant : un mécanisme de fixation (6) et un mécanisme de levage (7) ; le mécanisme de fixation comprend une plate-forme (61), et une pluralité de trous traversants (62) sont ménagés dans la plate-forme, et le mécanisme de levage comprend plusieurs parties de plaque (71) correspondant aux trous traversants, et les plusieurs parties de plaque peuvent respectivement se déplacer dans les trous traversants correspondants et former, conjointement avec la plate-forme, une surface de support servant à supporter des substrats, et les parties de plaque peuvent se déplacer vers des positions situées au-dessus des trous traversants correspondants. La présente invention permet de placer des substrats sur la plate-forme plate au cours de l'ensemble d'un traitement de séchage par le biais de la coordination du mécanisme de fixation et du mécanisme de levage. Par conséquent, par comparaison avec l'état de la technique, un contact entre un substrat et un dispositif de support de substrat passe d'un contact ponctuel à un contact de surface, ce qui permet de réduire le risque d'une performance inférieure d'affichage des produits. En outre, aucun réglage du dispositif de support n'est nécessaire pour des modèles de produits différents, ce qui permet de réduire la charge de travail pour les ouvriers et la difficulté de conception du dispositif.
(ZH)一种基板支撑装置、支撑方法以及真空干燥设备。所述基板支撑装置包括固定机构(6)和升降机构(7),所述固定机构包括台面(61),所述台面上设置有多个通孔(62),所述升降机构包括多个与所述通孔相对应的平板部(71),多个所述平板部能够分别移动至相应置通孔中并与所述台面共同形成用于支撑基板的支撑面,并且,所述平板部还能够移动至对应通孔上方的位置。本发明通过固定机构和升降机构相配合的方式,使基板在整个干燥过程中均放置在平坦的台面上。因此,与现有相比,基板与基板支撑装置的接触方式由点接触变成面接触,降低了产品出现显示不良的风险。此外,如果更换产品的型号,不需要对支撑装置进行调整,因而减少了人员的工作量,降低了装置的设计难度。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : chinois (ZH)
Langue de dépôt : chinois (ZH)