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1. (WO2016111329) ALLIAGE POUR COUCHE DE GERME DE SUPPORT D'ENREGISTREMENT MAGNÉTIQUE À BASE DE Ni-Cu, MATÉRIAU DE PULVÉRISATION CATHODIQUE, ET SUPPORT D'ENREGISTREMENT MAGNÉTIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/111329    N° de la demande internationale :    PCT/JP2016/050350
Date de publication : 14.07.2016 Date de dépôt international : 07.01.2016
CIB :
G11B 5/738 (2006.01), G11B 5/84 (2006.01), G11B 5/851 (2006.01)
Déposants : SANYO SPECIAL STEEL CO., LTD. [JP/JP]; 3007, Aza-Ichimonji, Nakashima, Shikama-ku, Himeji-shi, Hyogo 6728677 (JP)
Inventeurs : HASEGAWA Hiroyuki; (JP).
SHINMURA Yumeki; (JP)
Mandataire : NAGAI Hiroshi; (JP)
Données relatives à la priorité :
2015-002755 09.01.2015 JP
Titre (EN) ALLOY FOR SEED LAYER OF Ni-Cu-BASED MAGNETIC RECORDING MEDIUM, SPUTTERING TARGET MATERIAL, AND MAGNETIC RECORDING MEDIUM
(FR) ALLIAGE POUR COUCHE DE GERME DE SUPPORT D'ENREGISTREMENT MAGNÉTIQUE À BASE DE Ni-Cu, MATÉRIAU DE PULVÉRISATION CATHODIQUE, ET SUPPORT D'ENREGISTREMENT MAGNÉTIQUE
(JA) Ni-Cu系磁気記録媒体のシード層用合金およびスパッタリングターゲット材並びに磁気記録媒体
Abrégé : front page image
(EN)The objective of the present invention is to provide: an alloy for a seed layer of a Ni-Cu-based magnetic recording medium, the alloy being used for a seed layer in a perpendicular magnetic recording medium; and a sputtering target material. To achieve this objective, the present invention provides a Ni-Cu-M alloy for a seed layer of a magnetic recording medium, the Ni-Cu-M alloy comprising: 1-50 at% Cu; as the M element(s), 2-20 at% of at least one type of M1 element selected from W, Mo, Ta, Cr, V, and Nb, and 0-10 at% of at least one type of M3 element selected from Al, Ga, In, Si, Ge, Sn, Zr, Ti, Hf, B, P, C, and Ru; and Ni and inevitable impurities as the remainder. The present invention also provides a sputtering target material using said alloy, and a magnetic recording medium.
(FR)L'invention a pour objet de fournir un alliage pour couche de germe de support d'enregistrement magnétique à base de Ni-Cu mis en œuvre en tant que couche de germe dans un support d'enregistrement magnétique perpendiculaire, et un matériau de pulvérisation cathodique. Plus précisément, l'invention fournit un alliage Ni-Cu-M pour couche de germe de support d'enregistrement magnétique, un matériau de pulvérisation cathodique mettant en œuvre cet alliage et un support d'enregistrement magnétique. Ledit alliage Ni-Cu-M pour couche de germe de support d'enregistrement magnétique est caractéristique en ce qu'il comprend 1~50at% de Cu, et en tant qu'élément chimique M, 2~20at% d'une ou plusieurs sorte d'élément chimique (M1) choisies parmi W, Mo, Ta, Cr, V et Nb, et 0~10at% d'une ou plusieurs sorte d'élément chimique (M3) choisies parmi Al, Ga, In, Si, Ge, Sn, Zr, Ti, Hf, B, P, C, Ru, le reste étant constitué de Ni et des impuretés inévitables.
(JA) 本発明は、垂直磁気記録媒体におけるシード層として用いるNi-Cu系磁気記録媒体のシード層用合金およびスパッタリングターゲット材を提供することを課題とし、かかる課題を解決するために、磁気記録媒体のシード層用Ni-Cu-M合金であって、Cuを1~50at%、M元素として、W,Mo,Ta,Cr,V,Nbから選択される1種または2種以上のM1元素を2~20at%、Al,Ga,In,Si,Ge,Sn,Zr,Ti,Hf,B,P,C,Ruから選択される1種または2種以上のM3元素を0~10at%含有し、残部がNiと不可避的不純物からなることを特徴とする磁気記録媒体のシード層用Ni-Cu-M合金並びに該合金を使用したスパッタリングターゲット材および磁気記録媒体を提供する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)