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1. (WO2016111316) FILM PROTECTEUR DE PLAQUE POLARISANTE, SON PROCÉDÉ DE FABRICATION, PLAQUE POLARISANTE ET DISPOSITIF D'AFFICHAGE À CRISTAUX LIQUIDES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/111316    N° de la demande internationale :    PCT/JP2016/050251
Date de publication : 14.07.2016 Date de dépôt international : 06.01.2016
CIB :
G02B 5/30 (2006.01), B32B 7/02 (2006.01), B32B 23/08 (2006.01), B32B 27/20 (2006.01), B32B 27/36 (2006.01), C08J 5/18 (2006.01), C08J 7/04 (2006.01), G02F 1/1335 (2006.01)
Déposants : KONICA MINOLTA, INC. [JP/JP]; 2-7-2, Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo 1007015 (JP)
Inventeurs : MIZUTANI, Yosuke; (--)
Mandataire : WASHIDA, Kimihito; (JP)
Données relatives à la priorité :
2015-003496 09.01.2015 JP
Titre (EN) POLARIZING PLATE PROTECTIVE FILM, PRODUCTION METHOD THEREFOR, POLARIZING PLATE, AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE
(FR) FILM PROTECTEUR DE PLAQUE POLARISANTE, SON PROCÉDÉ DE FABRICATION, PLAQUE POLARISANTE ET DISPOSITIF D'AFFICHAGE À CRISTAUX LIQUIDES
(JA) 偏光板保護フィルムとその製造方法、偏光板及び液晶表示装置
Abrégé : front page image
(EN)The purpose of the present invention is to provide a polarizing plate protective film that, even if made thinner, has high surface hardness and is capable of having suppressed reduction in punching workability and suppressed polarizer deterioration, during polarizing plate production. This polarizing plate protective film includes a substrate film and an active energy ray cured product layer. The substrate film includes a cellulose ester and a polyester-based additive indicated by formula (1). The substrate film has a film thickness of 15-50 µm and a storage elastic modulus in an in-plane phase delay axis direction at 30°C of 5.0-7.0 GPa. Formula (1): B - (G - A) n - G - B (in the formula (1), B indicates a group induced from a hydroxyl group-containing monocarboxylic acid including a ring structure.)
(FR)L'objectif de la présente invention est de fournir un film protecteur de plaque polarisante qui, même s'il est très fin, a une dureté de surface élevée et est apte à avoir supprimé la réduction de l'aptitude au poinçonnage et supprimé la détérioration de polariseur, pendant une production de plaque polarisante. Ce film protecteur de plaque polarisante comprend un film de substrat et une couche de produit durci par rayons énergétiques actifs. Le film de substrat comprend un ester de cellulose et un additif à base de polyester représenté par la formule (1). Le film de substrat a une épaisseur de film de 15 à 50 µm et un module élastique de stockage dans une direction d'axe de retard de phase dans le plan à 30°C de 5,0 à 7,0 GPa. Formule (1): B - (G - A) n - G - B (dans la formule (1), B représente un groupe induit par un acide monocarboxylique comprenant une structure cyclique et contenant un groupe hydroxyle.)
(JA) 本発明の目的は、薄膜化しても、高い表面硬度を有し、かつ偏光板製造時の打ち抜き加工性の低下や偏光子劣化を抑制しうる偏光板保護フィルムを提供することである。本発明の偏光板保護フィルムは、基材フィルムと、活性エネルギー線硬化物層とを含み、前記基材フィルムは、セルロースエステルと、下記式(1)で表されるポリエステル系添加剤とを含み、前記基材フィルムは、膜厚が15~50μmであり、かつ30℃における面内遅相軸方向の貯蔵弾性率が5.0~7.0GPaである。 式(1):B-(G-A)n-G-B (式(1)中、Bは、環構造を含むヒドロキシ基含有モノカルボン酸から誘導される基である)
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)