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1. (WO2016110849) PROCÉDÉ ET APPAREIL DE MESURE D'ÉPAISSEUR DE COUCHE PAR EMCW
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/110849    N° de la demande internationale :    PCT/IL2016/050017
Date de publication : 14.07.2016 Date de dépôt international : 07.01.2016
CIB :
G01S 13/32 (2006.01), G01S 13/08 (2006.01)
Déposants : SYSMETRIC LTD. [IL/IL]; 26 Hatasia Street P.O. Box 1122 1811101 Afula ILlit (IL)
Inventeurs : GOZNI, Gili; (IL).
MAOZ, Shaike; (IL)
Mandataire : RECHAV, Betsalel0; WEBB & CO. P.O. Box 2189 7612100 Rehovot (IL)
Données relatives à la priorité :
62/100,923 08.01.2015 US
Titre (EN) EMCW LAYER THICKNESS MEASUREMENT APPARATUS AND METHOD
(FR) PROCÉDÉ ET APPAREIL DE MESURE D'ÉPAISSEUR DE COUCHE PAR EMCW
Abrégé : front page image
(EN)A method is provided for measuring a distance to a surface of an object using an electromagnetic continuous wave (EMCW). The method comprises obtaining an estimation dE of the distance to the surface. The method further comprises generating an electromagnetic continuous wave (EMCW) having a frequency in the range between about 100MHz and about 1THz, wherein the EMCW is frequency modulated so that the frequency thereof is controllably varied and transmitting a measurement portion of the EMCW towards the surface of the object. The method further comprises receiving a received signal from a reflection of the transmitted EMCW from the surface of the object and generating a combined signal by combining the received signal with a delayed signal, the delayed signal being obtained by delaying a reference portion of the EMCW by a controllably variable time delay∆T, ∆T being dictated by dE. The method further comprises measuring a parameter of the combined signal, thereby measuring the distance to the surface of the object.
(FR)L'invention concerne un procédé permettant de mesurer une distance jusqu'à une surface d'un objet à l'aide d'une onde électromagnétique continue (EMCW). Le procédé comprend l'obtention d'une estimation dE de la distance jusqu'à la surface. Le procédé comprend en outre les étapes consistant à générer une onde électromagnétique continue (EMCW) d'une fréquence comprise entre environ 100 MHz et environ 1 THz, l'onde EMCW étant modulée en fréquence de sorte que sa fréquence est modifiée de manière contrôlable et à émettre une partie de l'onde EMCW, dédiée à la mesure, vers la surface de l'objet. Le procédé comprend également les étapes consistant à recevoir un signal reçu provenant d'une réflexion de l'onde EMCW émise à partir de la surface de l'objet et à générer un signal combiné en combinant le signal reçu avec un signal retardé, le signal retardé étant obtenu en retardant une partie de référence de l'onde EMCW par une temporisation ∆T variable de manière contrôlable, ∆T étant dictée par dE. Le procédé comprend en outre l'étape consistant à mesurer un paramètre du signal combiné, ce qui permet de mesurer la distance jusqu'à la surface de l'objet.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)