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1. (WO2016110402) RÉACTEUR POUR DÉPOSER DU SILICIUM POLYCRISTALLIN
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/110402    N° de la demande internationale :    PCT/EP2015/080602
Date de publication : 14.07.2016 Date de dépôt international : 18.12.2015
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    24.05.2016    
CIB :
C01B 33/035 (2006.01), C21D 7/00 (2006.01), C22F 1/14 (2006.01), C23C 10/00 (2006.01)
Déposants : WACKER CHEMIE AG [DE/DE]; Hanns-Seidel-Platz 4 81737 München (DE)
Inventeurs : WEISS, Tobias; (DE).
KRAUS, Heinz; (DE)
Mandataire : POTTEN, Holger; (DE)
Données relatives à la priorité :
10 2015 200 070.2 07.01.2015 DE
Titre (DE) REAKTOR ZUR ABSCHEIDUNG VON POLYKRISTALLINEM SILICIUM
(EN) REACTOR FOR THE DEPOSITION OF POLYCRYSTALLINE SILICON
(FR) RÉACTEUR POUR DÉPOSER DU SILICIUM POLYCRISTALLIN
Abrégé : front page image
(DE)Gegenstand der Erfindung ist ein Reaktor zur Abscheidung von polykristallinem Silicium, umfassend eine metallische Grundplatte, eine über die Grundplatte gestülpte und mit der Grundplatte gasdicht verschlossene kühlbare Glocke, Düsen zur Gaszufuhr und Öffnungen zur Abfuhr von Reaktionsgas, sowie Halterungen für Filamentstäbe und Zu- und Ableitungen für elektrischen Strom, wobei die Innenwände der Glocke beschichtet sind, dadurch gekennzeichnet, dass die Beschichtung derart durch Warm- und / oder Kaltverformung mechanisch nachbehandelt worden ist, dass bei der mechanischen Behandlung eine plastische Umformung der Beschichtung stattgefunden hat.
(EN)The invention relates to a reactor for the deposition of polycrystalline silicon, comprising a metal base plate, a coolable bell jar that is placed over the base plate and sealed in a gas-tight manner with the base plate, nozzles for gas supply and openings for the discharge of reaction gas, as well as retaining means for filament rods and supply and discharge lines for electrical current, wherein the inner walls of the bell jar are coated, characterised in that the coating is mechanically post-treated by means of hot and/or cold deformation in such a way that a plastic deformation of the coating occurs during the mechanical treatment.
(FR)L'invention concerne un réacteur, destiné à déposer du silicium polycristallin, qui comprend une plaque de base métallique, une cloche, pouvant être refroidie, qui est retournée sur la plaque de base et qui peut être fermée au moyen de la plaque de base de façon étanche aux gaz, des buses d’amenée de gaz et des ouvertures d'évacuation de gaz de réaction, ainsi que des supports de tiges de filaments destinées à des lignes d’entrée et de sortie de courant électrique. Les parois intérieures de la cloche sont pourvues d’un revêtement. L’invention est caractérisée en ce que le revêtement a été soumis à un post-traitement mécanique par déformation à chaud et/ou à froid de telle sorte qu'une déformation plastique du revêtement s’est produite pendant le traitement mécanique.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)