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1. (WO2016110027) PROCÉDÉ ET DISPOSITIF D'ADAPTATION D'IMPÉDANCE POUR ALIMENTATION ÉLECTRIQUE RADIOFRÉQUENCE PULSÉE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/110027    N° de la demande internationale :    PCT/CN2015/077779
Date de publication : 14.07.2016 Date de dépôt international : 29.04.2015
CIB :
H01J 37/32 (2006.01)
Déposants : BEIJING NAURA MICROELECTRONICS EQUIPMENT CO., LTD. [CN/CN]; No.8 Wenchang Avenue Beijing Economic-Technological Development Area, Beijing 100176 (CN)
Inventeurs : CHENG, Xiaoyang; (CN)
Mandataire : TEE&HOWE INTELLECTUAL PROPERTY ATTORNEYS; Tianshu ZHANG 10th Floor, Tower D, Minsheng Financial Center, 28 Jianguomennei Avenue, Dongcheng District Beijing 100005 (CN)
Données relatives à la priorité :
201510004040.8 06.01.2015 CN
Titre (EN) IMPEDANCE MATCHING METHOD AND DEVICE FOR PULSE RADIO FREQUENCY POWER SUPPLY
(FR) PROCÉDÉ ET DISPOSITIF D'ADAPTATION D'IMPÉDANCE POUR ALIMENTATION ÉLECTRIQUE RADIOFRÉQUENCE PULSÉE
(ZH) 针对脉冲射频电源的阻抗匹配方法及装置
Abrégé : front page image
(EN)An impedance matching method and device for a pulse radio frequency power supply. The impedance matching method comprises the following steps: a coarse adjustment step: performing adjustment according to the current load impedance, making a current reflection coefficient |Г| not greater than a light-up reflection coefficient |Гt|, and setting a current position as a light-up position; a fine adjustment step: keeping the light-up position unchanged, performing real-time adjustment according to the current load impedance so as to achieve impedance matching, and setting the current position as a matching position; and a switching step: after impedance matching is achieved for a first time, switching between the light-up position and the matching position in different pulse time sections in follow-up pulse periods, so as to achieve impedance matching in different pulse periods. The impedance matching method and device can improve the matching speed of a pulse radio frequency power supply, and accordingly can improve the stability of a process and the utilization rate of the pulse radio frequency power supply.
(FR)L'invention concerne un procédé et un dispositif d'adaptation d'impédance pour une alimentation électrique radiofréquence pulsée. Le procédé d'adaptation d'impédance comprend les étapes suivantes : une étape de réglage grossier consistant à effectuer un réglage en fonction de l'impédance de charge courante, à rendre un coefficient de réflexion courant |Г| inférieur ou égal à un coefficient de réflexion d'allumage |Гt|, et à établir une position courante comme position d'allumage ; une étape de réglage fin consistant à maintenir la position d'allumage inchangée, à effectuer un réglage en temps réel en fonction de l'impédance de charge courante de manière à réaliser une adaptation d'impédance, et à établir la position courante comme position d'adaptation ; et une étape de commutation consistant, après qu'une adaptation d'impédance a été réalisée pour la première fois, à commuter entre la position d'allumage et la position d'adaptation dans différentes sections de temps d'impulsion dans des périodes d'impulsion de suivi, de manière à réaliser une adaptation d'impédance dans différentes périodes d'impulsion. Le procédé et le dispositif d'adaptation d'impédance peuvent améliorer la vitesse d'adaptation d'une alimentation électrique radiofréquence pulsée, et peuvent par conséquent améliorer la stabilité d'un processus et le taux d'utilisation de l'alimentation électrique radiofréquence pulsée.
(ZH)一种针对脉冲射频电源的阻抗匹配方法及装置。该阻抗匹配方法包括以下步骤:粗调步骤:根据当前负载阻抗进行调节,使当前反射系数|Г|不大于起辉反射系数|Гt|,并设置当前位置为起辉位置;微调步骤:保持起辉位置不变,根据当前负载阻抗实时调节实现阻抗匹配,并设置当前位置为匹配位置;切换步骤:在首次实现阻抗匹配后,在后续的各脉冲周期中的不同脉冲时段,在起辉位置和匹配位置进行切换,以实现不同脉冲周期下的阻抗匹配。该阻抗匹配方法及装置可以提高脉冲射频电源的匹配速率,从而可以提高工艺的稳定性和脉冲射频电源的利用率。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : chinois (ZH)
Langue de dépôt : chinois (ZH)