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1. (WO2016109061) DÉTERMINATION DE MASQUES D’OPÉRATION CRYPTOGRAPHIQUE POUR AMÉLIORER LA RÉSISTANCE À DES ATTAQUES DE SURVEILLANCE EXTERNES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/109061    N° de la demande internationale :    PCT/US2015/062150
Date de publication : 07.07.2016 Date de dépôt international : 23.11.2015
CIB :
G06F 21/72 (2013.01)
Déposants : CRYPTOGRAPHY RESEARCH, INC. [US/US]; c/o Rambus, Inc. 1050 Enterprise Way, Suite 700 Sunnyvale, California 94089 (US)
Inventeurs : COOPER, Jeremy Samuel; (US)
Mandataire : PORTNOVA, Marina; (US)
Données relatives à la priorité :
62/098,189 30.12.2014 US
Titre (EN) DETERMINING CRYPTOGRAPHIC OPERATION MASKS FOR IMPROVING RESISTANCE TO EXTERNAL MONITORING ATTACKS
(FR) DÉTERMINATION DE MASQUES D’OPÉRATION CRYPTOGRAPHIQUE POUR AMÉLIORER LA RÉSISTANCE À DES ATTAQUES DE SURVEILLANCE EXTERNES
Abrégé : front page image
(EN)Systems and methods for determining cryptographic operation masks for improving resistance to external monitoring attacks. An example method may comprise: selecting a first input mask value, a first output mask value, and one or more intermediate mask values; based on the first output mask value and the intermediate mask values, calculating a first transformation output mask value comprising two or more portions, wherein concatenation of all portions of the first transformation output mask value produces the first transformation output mask value, and wherein exclusive disjunction of all portions of the first transformation output mask value is equal to the first output mask value; and performing a first masked transformation based on the first transformation output mask value and the first input mask value.
(FR)L’invention concerne des systèmes et des procédés pour déterminer des masques d’opération cryptographique pour améliorer la résistance à des attaques de surveillance externes. Un procédé à titre d’exemple peut consister : à sélectionner une première valeur de masque d’entrée, une première valeur de masque de sortie, et une ou plusieurs valeurs de masque intermédiaires ; sur la base de la première valeur de masque de sortie et des valeurs de masque intermédiaires, à calculer une première valeur de masque de sortie de transformation comprenant au moins deux parties, une concaténation de toutes les parties de la première valeur de masque de sortie de transformation produisant la première valeur de masque de sortie de transformation, et une disjonction exclusive de toutes les parties de la première valeur de masque de sortie de transformation étant égale à la première valeur de masque de sortie ; et à réaliser une première transformation masquée sur la base de la première valeur de masque de sortie de transformation et de la première valeur de masque d’entrée.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)