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1. (WO2016107798) APPAREIL D'EXPOSITION SANS MASQUE AVEC ALIGNEMENT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/107798    N° de la demande internationale :    PCT/EP2015/081022
Date de publication : 07.07.2016 Date de dépôt international : 22.12.2015
CIB :
G03F 9/00 (2006.01)
Déposants : VISITECH AS [NO/NO]; P.O. Box 616 N-3003 Drammen (NO)
Inventeurs : JØRGENSEN, Trond; (NO).
KIRKHORN, Endre; (NO).
TAFJORD, Øyvind; (NO)
Mandataire : ONSAGERS AS; P.O. Box 1813 Vika N-0123 Oslo (NO)
Données relatives à la priorité :
14200630.3 30.12.2014 EP
Titre (EN) A MASKLESS EXPOSURE APPARATUS WITH ALIGNMENT
(FR) APPAREIL D'EXPOSITION SANS MASQUE AVEC ALIGNEMENT
Abrégé : front page image
(EN)A maskless exposure apparatus comprises a light source (302) providing an exposure beam (306); a light modulator (302) modulating the exposure beam (306)according to an exposure pattern;an exposure optical system (303, 304, 308) delivering the modulated exposure beam as an image (311) provided by the light modulator onto a substrate (307); and a measurement system (303, 304, 305, 308, 309) configured to measure a position of an alignment mark previously patterned on the substrate. The exposure optical system and the measurement system have at least partially concurrent optical paths.
(FR)Un appareil d'exposition sans masque selon l'invention comprend une source de lumière (302) fournissant un faisceau d'exposition (306) ; un modulateur de lumière (302) modulant le faisceau d'exposition (306) selon un motif d'exposition ; un système optique d'exposition (303, 304, 308) délivrant le faisceau d'exposition modulé sous la forme d'une image (311) fournie par le modulateur de lumière sur un substrat (307) ; et un système de mesure (303, 304, 305, 308, 309) configuré pour mesurer une position d'un repère d'alignement préalablement dessiné sur le substrat. Le système optique d'exposition et le système de mesure ont des chemins optiques au moins partiellement concourants.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)