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1. (WO2016107323) SUBSTRAT D'AFFICHAGE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION CORRESPONDANT, ÉCRAN D’AFFICHAGE ET PLAQUE DE MASQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/107323    N° de la demande internationale :    PCT/CN2015/094860
Date de publication : 07.07.2016 Date de dépôt international : 18.11.2015
CIB :
H01L 27/32 (2006.01), H01L 51/52 (2006.01), H01L 51/56 (2006.01), C23C 14/04 (2006.01)
Déposants : BOE TECHNOLOGY GROUP CO., LTD. [CN/CN]; No. 10 Jiuxianqiao Rd., Chaoyang District Beijing 100015 (CN)
Inventeurs : SONG, Young Suk; (CN).
YOO, Seong Yeol; (CN).
CHOI, Seung Jin; (CN).
KIM, Hee Cheol; (CN)
Mandataire : TEE&HOWE INTELLECTUAL PROPERTY ATTORNEYS; Yuan Chen 10th Floor, Tower D, Minsheng Financial Center 28 Jianguomennei Avenue Dongcheng District, Beijing 100005 (CN)
Données relatives à la priorité :
201410841697.5 30.12.2014 CN
Titre (EN) DISPLAY SUBSTRATE AND MANUFACTURING METHOD THEREOF, DISPLAY PANEL AND MASK PLATE
(FR) SUBSTRAT D'AFFICHAGE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION CORRESPONDANT, ÉCRAN D’AFFICHAGE ET PLAQUE DE MASQUE
(ZH) 显示基板及其制造方法、显示面板和掩膜板
Abrégé : front page image
(EN)Provided is a display substrate, comprising: an anode layer, a cathode layer (60) and a light-emitting layer provided between the anode layer and the cathode layer (60); the anode layer comprises a plurality of anodes (21), and the light-emitting layer comprises a plurality of light-emitting areas (50); the display substrate further comprises at least one auxiliary electrode (22), the auxiliary electrodes (22) being insulated and spaced away from the anodes (21) and contacting in parallel with the cathode layer (60), such that overall resistance after the auxiliary electrodes (22) and the cathode layer (60) are connected in parallel is less than resistance of the cathode layer. Also provided are a display panel, manufacturing method of the display substrate and mask plate. The anode of the display substrate results in a smaller IR drop, therefore, an electrical signal has comparatively smaller loss in the cathode layer (60) and the auxiliary electrodes (22), thereby delivering a relatively higher picture quality.
(FR)L'invention concerne un substrat d'affichage comprenant : une couche d'anode, une couche de cathode (60) et une couche électroluminescente disposée entre la couche d'anode et la couche de cathode (60) ; la couche d'anode comprend une pluralité d'anodes (21), et la couche électroluminescente comprend une pluralité de zones électroluminescentes (50) ; le substrat d'affichage comprend en outre au moins une électrode auxiliaire (22), les électrodes auxiliaires (22) étant isolées et espacées des anodes (21) et en contact en parallèle avec la couche de cathode (60), de manière que la résistance globale après que les électrodes auxiliaires (22) et la couche de cathode (60) ont été connectées en parallèle soit inférieure à la résistance de la couche de cathode. L'invention concerne également un écran d'affichage, un procédé de fabrication du substrat d'affichage et une plaque de masque. L'anode du substrat d'affichage permet d'obtenir une plus petite chute IR, par conséquent, un signal électrique présente une perte comparativement plus petite dans la couche de cathode (60) et les électrodes auxiliaires (22), ce qui permet de délivrer une qualité d'image relativement plus élevée.
(ZH)提供一种显示基板,包括阳极层、阴极层(60)和设置在所述阳极层和所述阴极层(60)之间的发光层,所述阳极层包括多个阳极(21),所述发光层包括多个发光区(50),其中,所述显示基板还包括至少一个辅助电极(22),所述辅助电极(22)与所述阳极(21)绝缘间隔开,且所述辅助电极(22)与所述阴极层(60)并联接触,使得所述辅助电极(22)与所述阴极层(60)并联后的整体电阻小于所述阴极层自身的电阻。还提供了一种显示面板、一种显示基板的制造方法和一种掩膜板。上述显示基板的阴极电阻压降(IR drop)较小,因此,电信号在阴极层(60)以及辅助电极(22)中的损失也相对较小,从而可以获得相对较高的画面质量。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : chinois (ZH)
Langue de dépôt : chinois (ZH)