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1. (WO2016107039) SUBSTRAT DE RÉSEAU, SON PROCÉDÉ DE FABRICATION ET DISPOSITIF D’AFFICHAGE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/107039    N° de la demande internationale :    PCT/CN2015/078203
Date de publication : 07.07.2016 Date de dépôt international : 04.05.2015
CIB :
G02F 1/1335 (2006.01)
Déposants : BOE TECHNOLOGY GROUP CO., LTD. [CN/CN]; No.10 Jiuxianqiao Rd., Chaoyang District Beijing 100015 (CN)
Inventeurs : CHOI, Seungjin; (CN)
Mandataire : LIU, SHEN & ASSOCIATES; 10th Floor, Building 1, 10 Caihefang Road Haidian District Beijing 100080 (CN)
Données relatives à la priorité :
201510004123.7 04.01.2015 CN
Titre (EN) ARRAY SUBSTRATE, MANUFACTURING METHOD THEREFOR, AND DISPLAY DEVICE
(FR) SUBSTRAT DE RÉSEAU, SON PROCÉDÉ DE FABRICATION ET DISPOSITIF D’AFFICHAGE
(ZH) 阵列基板及其制作方法及显示装置
Abrégé : front page image
(EN)An array substrate, a manufacturing method therefor, and a display device. The array substrate comprises a black matrix (200) disposed on a base substrate (100). The array substrate is provided with multiple pixel units disposed in an array manner. The orthographic projection of patterns of the black matrix (200) on the base substrate (100) at least partially covers gaps between adjacent pixel units. The surface of at least one part of the black matrix (200) is provided with a first recessed-raised structure (A) capable of diffusing and reflecting light irradiated on the surface of the black matrix (200). Because the first recessed-raised structure (A) on the surface of the black matrix (200) has diffusion and reflection effects, when outside light is irradiated on the surface of the black matrix (200), the outside light is diffused and reflected; in this way, the light intensity of the reflected light is reduced, the visibility of regions where pixel units of the array substrate are located is improved, and the image display effect is improved.
(FR)L'invention concerne un substrat de réseau, son procédé de fabrication et un dispositif d’affichage. Le substrat de réseau comprend une matrice noire (200) disposée sur un substrat de base (100). Le substrat de réseau est doté de multiples unités de pixels disposées en réseau. La projection orthographique des motifs de la matrice noire (200) sur le substrat de base (100) recouvre au moins partiellement des espaces entre des unités de pixels adjacentes. La surface d'au moins une partie de la matrice noire (200) est dotée d'une première structure (A) en relief-retrait susceptible de diffuser et de réfléchir la lumière rayonnée sur la surface de la matrice noire (200). En raison du fait que la première structure (A) en relief-retrait sur la surface de la matrice noire (200) possède des effets de diffusion et de réflexion, lorsque la lumière extérieure est rayonnée sur la surface de la matrice noire (200), la lumière extérieure est diffusée et réfléchie ; de cette manière, l'intensité lumineuse de la lumière réfléchie est réduire, la visibilité des régions sur lesquelles les unités de pixels du substrat de réseau sont situées est améliorée et l'effet d'affichage d'image est amélioré.
(ZH)一种阵列基板、其制作方法及显示装置,其中阵列基板包括设置在衬底基板(100)上的黑矩阵(200),阵列基板具有呈阵列排布的多个像素单元,黑矩阵(200)的图案在衬底基板上的正投影至少部分地覆盖相邻的像素单元之间的间隙处,黑矩阵(200)的至少一部分的表面具有可将照射到黑矩阵(200)表面的光线进行漫反射的第一凹凸结构(A)。由于黑矩阵(200)表面的第一凹凸结构(A)具有漫反射作用,当外部光线照射到黑矩阵(200)的表面时被漫反射,从而反射光的光强减小,阵列基板的各像素单元所在区域的可见性得到提高,画面的显示效果得到提升。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : chinois (ZH)
Langue de dépôt : chinois (ZH)