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1. (WO2016091314) BIPRISME ÉLECTROSTATIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international

N° de publication : WO/2016/091314 N° de la demande internationale : PCT/EP2014/077393
Date de publication : 16.06.2016 Date de dépôt international : 11.12.2014
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 : 04.10.2016
CIB :
H01J 37/04 (2006.01)
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
J
TUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
37
Tubes à décharge pourvus de moyens permettant l'introduction d'objets ou d'un matériau à exposer à la décharge, p.ex. pour y subir un examen ou un traitement
02
Détails
04
Dispositions des électrodes et organes associés en vue de produire ou de commander la décharge, p.ex. dispositif électronoptique, dispositif ionoptique
Déposants :
FORSCHUNGSZENTRUM JÜLICH GMBH [DE/DE]; Leo-Brandt-Straße 52425 Jülich, DE
COMMISSARIAT À L'ÈNERGIE ATOMIQUE ET AUX ÉNERGIES ALTERNATIVES [FR/FR]; 17, rue des Martyrs F-38054 Grenoble cedex 9, FR
Inventeurs :
DUCHAMP, Martial; DE
DUNIN-BORKOWSKI, Rafal Edward; DE
GIRARD, Olivier; FR
COOPER, David; FR
Mandataire :
JOSTARNDT PATENTANWALTS-AG; Philipsstraße 8 52068 Aachen, DE
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) ELECTROSTATIC BIPRISM
(FR) BIPRISME ÉLECTROSTATIQUE
Abrégé :
(EN) The invention relates to an electrostatic biprism comprising a multilayer with a freestanding electrode, being preferably a multi-biprism, the method for preparing said electrostatic biprism and the use of said biprism within an electron beam device. The invention further relates to a microscope, an interferometer or an electron beam device comprising said electrostatic biprism.
(FR) La présente invention concerne un biprisme électrostatique comportant une multicouche avec une électrode autoportante, étant de préférence un double multi-prisme, le procédé pour la préparation dudit biprisme électrostatique et l'utilisation dudit biprisme à l'intérieur d'un dispositif à faisceau d'électrons. L'invention concerne en outre un microscope, un interféromètre ou un dispositif à faisceau d'électrons comprenant ledit biprisme électrostatique.
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : Anglais (EN)
Langue de dépôt : Anglais (EN)