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1. (WO2016063580) DISPOSITIF DE CALCUL DE QUANTITÉ DE CORRECTION DE MOTIF, PROCÉDÉ DE CALCUL DE QUANTITÉ DE CORRECTION DE MOTIF, ET SUPPORT D'ENREGISTREMENT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication : WO/2016/063580 N° de la demande internationale : PCT/JP2015/069265
Date de publication : 28.04.2016 Date de dépôt international : 03.07.2015
CIB :
G03F 1/78 (2012.01) ,G03F 1/70 (2012.01) ,G03F 7/20 (2006.01)
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
1
Originaux pour la production par voie photomécanique de surfaces texturées, p.ex. masques, photomasques ou réticules; Masques vierges ou pellicules à cet effet; Réceptacles spécialement adaptés à ces originaux; Leur préparation
68
Procédés de préparation non couverts par les groupes G03F1/20-G03F1/50105
76
Création des motifs d'un masque par imagerie
78
par un faisceau de particules chargées [CPB charged particle beam], p.ex. création des motifs d'un masque par un faisceau d'électrons
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
1
Originaux pour la production par voie photomécanique de surfaces texturées, p.ex. masques, photomasques ou réticules; Masques vierges ou pellicules à cet effet; Réceptacles spécialement adaptés à ces originaux; Leur préparation
68
Procédés de préparation non couverts par les groupes G03F1/20-G03F1/50105
70
Adaptation du tracé ou de la conception de base du masque aux exigences du procédé lithographique, p.ex. correction par deuxième itération d'un motif de masque pour l'imagerie
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20
Exposition; Appareillages à cet effet
Déposants : NIPPON CONTROL SYSTEM CORPORATION[JP/JP]; 1-20-18, Ebisu, Shibuya-ku, Tokyo 1500013, JP
Inventeurs : TSUNOE, Hiroyuki; JP
Mandataire : TANIGAWA, Hidekazu; JP
Données relatives à la priorité :
2014-21438221.10.2014JP
Titre (EN) PATTERN CORRECTION AMOUNT CALCULATION DEVICE, PATTERN CORRECTION AMOUNT CALCULATION METHOD, AND RECORDING MEDIUM
(FR) DISPOSITIF DE CALCUL DE QUANTITÉ DE CORRECTION DE MOTIF, PROCÉDÉ DE CALCUL DE QUANTITÉ DE CORRECTION DE MOTIF, ET SUPPORT D'ENREGISTREMENT
(JA) パターン補正量算出装置、パターン補正量算出方法、および記録媒体
Abrégé :
(EN) [Problem] To calculate an appropriate correction amount for each of two or more consecutive microscopic sides. [Solution] Provided is a pattern correction amount calculation device for calculating the appropriate correction amount for each of two or more consecutive microscopic sides. The pattern correction amount calculation device comprises: a reception unit for receiving pattern information; a microscopic side set acquisition unit for acquiring a set of microscopic sides that is a set of two or more consecutive microscopic sides configuring the contour line of a graphic pattern represented by the pattern information, the microscopic sides being small enough to satisfy predetermined conditions; a virtual side acquisition unit for acquiring a virtual side that is a side for approximating the two or more microscopic sides included in the set of microscopic sides; a virtual side correction amount calculation unit for calculating the virtual side correction amount which is the correction amount for the virtual side; a microscopic sides correction amount calculation unit for calculating the correction amount for each of two or more microscopic sides included in the set of microscopic sides corresponding to the virtual side using the correction amount for the virtual side; and an output unit for outputting the correction amount for two or more microscopic sides.
(FR) Le problème est ici de calculer une quantité de correction appropriée pour chacun de deux ou plusieurs côtés microscopiques consécutifs. L'invention fournit comme solution un dispositif de calcul de quantité de correction de motif permettant de calculer la quantité de correction appropriée pour chacun de deux ou plusieurs côtés microscopiques consécutifs. Le dispositif de calcul de quantité de correction de motif comprend : une unité de réception permettant de recevoir des informations de motif ; une unité d'acquisition d’ensemble de côtés microscopiques permettant d’acquérir un ensemble de côtés microscopiques qui est un ensemble de deux ou plusieurs côtés microscopiques consécutifs configurant la ligne de contour d'un motif graphique représenté par les informations de motif, les côtés microscopiques étant suffisamment petits pour satisfaire des conditions prédéterminées ; une unité d'acquisition de côté virtuel pour acquérir un côté virtuel qui est un côté pour approcher les deux ou plusieurs côtés microscopiques inclus dans l'ensemble de côtés microscopiques; une unité de calcul de quantité de correction de côté virtuel pour calculer la quantité de correction de côté virtuel qui représente la quanitité de correction pour le côté virtuel ; une unité de calcul de quantité de correction de côtés microscopiques permettant de calculer la quantité de correction pour chacun de deux ou plusieurs côtés microscopiques inclus dans l'ensemble de côtés microscopiques correspondant au côté virtuel à l'aide de la quantité de correction pour le côté virtuel ; et une unité de sortie pour délivrer en sortie la quantité de correction pour deux ou plusieurs côtés microscopiques.
(JA) 【課題】連続する2以上の各微小辺に対する適切な補正量を算出することができなかった。 【解決手段】パターン情報を受け付ける受付部と、パターン情報が示すパターン図形の輪郭線を構成する連続する2以上の辺の集合であり、予め決められた条件を満たすほど小さい微小辺の集合である微小辺集合を取得する微小辺集合取得部と、微小辺集合が有する2以上の微小辺を近似する辺である仮想辺を取得する仮想辺取得部と、仮想辺に対する補正量である仮想辺補正量を算出する仮想辺補正量算出部と、仮想辺補正量を用いて、仮想辺に対応する微小辺集合が有する2以上の各微小辺に対する補正量である2以上の微小辺補正量を算出する微小辺補正量算出部と、2以上の微小辺補正量を出力する出力部とを備えるパターン補正量算出装置により、連続する2以上の各微小辺に対する適切な補正量を算出することができる。
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)