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1. (WO2016059789) PROCÉDÉ DE FORMATION DE FILM SUR UN SUBSTRAT FLEXIBLE À L'AIDE D'UN PROCÉDÉ DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR

Pub. No.:    WO/2016/059789    International Application No.:    PCT/JP2015/005176
Publication Date: Fri Apr 22 01:59:59 CEST 2016 International Filing Date: Wed Oct 14 01:59:59 CEST 2015
IPC: C23C 14/34
C23C 14/56
C23C 16/455
C23C 16/54
H01L 21/316
Applicants: TOPPAN PRINTING CO., LTD.
凸版印刷株式会社
Inventors: KON, Masato
今 真人
Title: PROCÉDÉ DE FORMATION DE FILM SUR UN SUBSTRAT FLEXIBLE À L'AIDE D'UN PROCÉDÉ DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR
Abstract:
L'invention concerne un procédé de formation d'un film sur un substrat flexible à l'aide d'un procédé de dépôt en phase vapeur dans le but de réduire la taille d'un dispositif dans son ensemble et d'améliorer la productivité par l'amélioration du rendement. Le procédé de formation de film selon la présente invention comprend : une étape dans laquelle des constituants contenus dans une matière de départ gazeuse contenant un métal ou du silicium sont adsorbés sur un substrat flexible par passage du substrat flexible dans une première zone, dans laquelle la matière de départ gazeuse a été introduite, ladite première zone étant dans une chambre à vide ; et une étape dans laquelle un film est formé par pulvérisation cathodique par passage du substrat flexible dans une seconde zone dans la chambre à vide, ladite seconde zone étant séparée de la première zone et étant pourvue d'un matériau cible contenant un métal ou du silicium.