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1. (WO2016049442) SYSTÈMES POUR INCISION LENTICULAIRE AU LASER
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/049442    N° de la demande internationale :    PCT/US2015/052199
Date de publication : 31.03.2016 Date de dépôt international : 25.09.2015
CIB :
A61F 9/008 (2006.01)
Déposants : AMO DEVELOPMENT, LLC [US/US]; 1700 E. St. Andrew Place Santa Ana, CA 92705 (US)
Inventeurs : FU, Hong; (US)
Mandataire : SHARMA, Sanjesh; (US)
Données relatives à la priorité :
62/183,653 23.06.2015 US
62/055,437 25.09.2014 US
Titre (EN) SYSTEMS FOR LENTICULAR LASER INCISION
(FR) SYSTÈMES POUR INCISION LENTICULAIRE AU LASER
Abrégé : front page image
(EN)Embodiments of this invention generally relate to ophthalmic laser procedures and, more particularly, to systems and methods for lenticular laser incision. In an embodiment, an ophthalmic surgical laser system comprises a laser delivery system for delivering a pulsed laser beam to a target in a subject's eye, an XY-scan device to deflect the pulsed laser beam, a Z-scan device to modify a depth of a focus of the pulsed laser beam, and a controller configured to form a top lenticular incision and a bottom lenticular incision of a lens in the subject's eye.
(FR)Des modes de réalisation de la présente invention concernent, de manière générale, des procédures ophtalmiques au laser et, plus particulièrement, des systèmes et des procédés pour une incision lenticulaire au laser. Dans un mode de réalisation, un système de laser chirurgical ophtalmique comprend un système d'administration de laser pour administrer un faisceau laser pulsé à une cible dans l'œil d'un sujet, un dispositif de balayage XY pour dévier le faisceau laser pulsé, un dispositif de balayage Z pour modifier une profondeur de foyer du faisceau laser pulsé et un dispositif de commande configuré pour former une incision lenticulaire supérieure et une incision lenticulaire inférieure d'une lentille dans l'œil du sujet.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)