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1. (WO2016047725) COMPOSITION DE LIQUIDE DE POLISSAGE POUR FILM D'OXYDE DE SILICIUM

Pub. No.:    WO/2016/047725    International Application No.:    PCT/JP2015/077030
Publication Date: 31 mars 2016 International Filing Date: 25 sept. 2015
IPC: C09K 3/14
B24B 37/00
C09G 1/02
H01L 21/304
Applicants: KAO CORPORATION
花王株式会社
Inventors: DOI Haruhiko
土居陽彦
KINUTA Koji
衣田幸司
Title: COMPOSITION DE LIQUIDE DE POLISSAGE POUR FILM D'OXYDE DE SILICIUM
Abstract:
L'invention fournit une composition de liquide de polissage pour film d'oxyde de silicium améliorant la vitesse de polissage. Dans un ou plusieurs modes de réalisation de l'invention, la composition de liquide de polissage pour film d'oxyde de silicium comprend : de l'eau ; des particules d'oxyde de cérium ; et un composé possédant dans chaque molécule un groupe amino, et au moins un groupe choisi parmi un groupe sulfonate et un groupe acide phosphonique. Dans ladite composition de liquide de polissage, (nombre de moles de groupes acide contenu dans le composé) / (surface totale des particules d'oxyde de cérium) est compris entre 1,6×10-5 et 5,0×10-2 moles/m2.