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1. (WO2016047655) PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN COMPOSÉ (MÉTH)ACRYLATE, PROCÉDÉ DE PURIFICATION D'UN COMPOSÉ (MÉTH)ACRYLATE ET COMPOSÉ (MÉTH)ACRYLATE ASSOCIÉ
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/047655    N° de la demande internationale :    PCT/JP2015/076853
Date de publication : 31.03.2016 Date de dépôt international : 24.09.2015
CIB :
C07C 67/62 (2006.01), C07C 69/54 (2006.01)
Déposants : FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620 (JP)
Inventeurs : KITAGAWA Hirotaka; (JP)
Mandataire : SIKS & CO.; 8th Floor, Kyobashi-Nisshoku Bldg., 8-7, Kyobashi 1-chome, Chuo-ku, Tokyo 1040031 (JP)
Données relatives à la priorité :
2014-196186 26.09.2014 JP
Titre (EN) METHOD FOR PRODUCING (METH)ACRYLATE COMPOUND, METHOD FOR PURIFYING (METH)ACRYLATE COMPOUND, AND (METH)ACRYLATE COMPOUND
(FR) PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN COMPOSÉ (MÉTH)ACRYLATE, PROCÉDÉ DE PURIFICATION D'UN COMPOSÉ (MÉTH)ACRYLATE ET COMPOSÉ (MÉTH)ACRYLATE ASSOCIÉ
(JA) (メタ)アクリレート化合物の製造方法、(メタ)アクリレート化合物の精製方法および、(メタ)アクリレート化合物
Abrégé : front page image
(EN) Provided are a method for producing a (meth)acrylate compound and a method for purifying a (meth)acrylate compound with which it is possible to prevent the polymerization of a (meth)acrylate compound during distillation and to highly productively produce a (meth)acrylate compound having a low impurity content, and a (meth)acrylate compound having a low impurity content. The method for producing and method for purifying a (meth)acrylate compound of the present invention involve conducting distillation after adding an N-oxyl compound A having a molecular weight of from 150 to less than 270 and an N-oxyl compound B having a molecular weight of 270 or higher to a mixture including a target (meth)acrylate compound, and recovering the target (meth)acrylate compound. The (meth)acrylate compound of the present invention is obtained by the above method, the (meth)acrylate compound having a HPLC purity of 98% or higher and/or a Na content of 10 ppb or lower.
(FR) L'invention concerne un procédé de production d'un composé (méth)acrylate et un procédé de purification d'un composé (méth)acrylate, dans lesquels, la polymérisation du composé (méth)acrylate au moment de la distillation est évitée et dans lesquels il est possible d'obtenir avec un bon rendement un composé (méth)acrylate contenant peu d'impuretés. L'invention concerne également ce composé (méth)acrylate contenant peu d'impuretés. Ces procédés de production et de purification d'un composé (méth)acrylate consistent, après avoir ajouté à un mélange contenant le composé (méth)acrylate voulu un composé (A) N-oxyle de masse moléculaire supérieure ou égale à 150 et inférieure à 270 et un composé (B) N-oxyle de masse moléculaire supérieure ou égale à 270, à effectuer une distillation, puis à récupérer le composé (méth)acrylate voulu. Le composé (méth)acrylate obtenu par les procédés susmentionnés présente un degré de pureté HPLC supérieur ou égal à 98%, et/ou sa teneur en Na est égale ou inférieure à 10ppb.
(JA) 蒸留時における(メタ)アクリレート化合物の重合を防止し、不純物の含有量が少ない(メタ)アクリレート化合物を生産性よく製造可能な(メタ)アクリレート化合物の製造方法および(メタ)アクリレート化合物の精製方法、ならびに、不純物の含有量が少ない(メタ)アクリレート化合物を提供する。 本発明の(メタ)アクリレート化合物の製造方法および精製方法は、目的の(メタ)アクリレート化合物を含む混合物に、分子量150以上270未満のN-オキシル化合物Aと、分子量270以上のN-オキシル化合物Bとを添加した後、蒸留を行い、目的の(メタ)アクリレート化合物を回収する。本発明の(メタ)アクリレート化合物は、上記方法で得られたものであって、HPLC純度が98%以上、および/または、Na含有量が10ppb以下である。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)