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1. (WO2016047345) ÉBAUCHE DE MASQUE, PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'ÉBAUCHE DE MASQUE ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE MASQUE DE TRANSFERT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/047345    N° de la demande internationale :    PCT/JP2015/073892
Date de publication : 31.03.2016 Date de dépôt international : 25.08.2015
CIB :
G03F 1/50 (2012.01), C08F 220/28 (2006.01), G03F 7/11 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
Déposants : HOYA CORPORATION [JP/JP]; 6-10-1 Nishi-Shinjuku, Shinjuku-ku, Tokyo 1608347 (JP).
NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. [JP/JP]; 7-1, Kanda-Nishiki-cho 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010054 (JP)
Inventeurs : HIROMATSU Takahiro; (JP).
HASHIMOTO Masahiro; (JP).
SAKAIDA Yasushi; (JP).
MIZUOCHI Ryuta; (JP).
SAKAMOTO Rikimaru; (JP).
NAGAI Masaki; (JP)
Mandataire : ANIYA Setuo; (JP)
Données relatives à la priorité :
2014-195862 25.09.2014 JP
Titre (EN) MASK BLANK, METHOD FOR PRODUCING MASK BLANK AND METHOD FOR PRODUCING TRANSFER MASK
(FR) ÉBAUCHE DE MASQUE, PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'ÉBAUCHE DE MASQUE ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE MASQUE DE TRANSFERT
(JA) マスクブランク、マスクブランクの製造方法及び転写用マスクの製造方法
Abrégé : front page image
(EN)A mask blank which is provided, on a substrate 10, with: a thin film 11 for forming a transfer pattern; a resist base film 12 which is provided on the thin film and is formed from a resist base composition containing a polymer that contains a unit structure having a lactone ring and a unit structure having a hydroxyl group; a resist film 13 which is provided on the resist base film and is formed from a resist composition; and a mixture film 14 that is provided so as to intervene between the resist base film and the resist film and is formed from a mixture that contains the resist base composition and the resist composition.
(FR)L'invention concerne une ébauche de masque qui est équipée, sur un substrat 10, de : un film mince 11 pour former un motif de transfert; un film de base de réserve 12 qui est disposé sur le film mince et est formé à partir d'une composition de base de réserve contenant un polymère qui contient une structure unitaire ayant un anneau de lactone et une structure unitaire ayant un groupe hydroxyle; un film de réserve 13 qui est disposé sur le film de base de réserve et est formé à partir d'une composition de réserve; et un film de mélange 14 qui est disposé de façon à intervenir entre le film de base de réserve et le film de réserve et est formé à partir d'un mélange qui contient la composition de base de réserve et la composition de réserve.
(JA) 基板10上に、転写パターンを形成するための薄膜11と、薄膜上に設けられ、ラクトン環を有する単位構造及び水酸基を有する単位構造を含むポリマーを含有するレジスト下地組成物から形成されるレジスト下地膜12と、レジスト下地膜上に設けられ、レジスト組成物から形成されるレジスト膜13と、レジスト下地膜とレジスト膜との間に介在するように設けられ、レジスト下地組成物とレジスト組成物とを含む混合成分から形成される混合膜14と、を備えるマスクブランクである。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)