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1. (WO2016044921) PROCÉDÉ D'ÉLECTRO-TRAITEMENT DE RÉSIDUS POUR CRÉER DES STRUCTURES GÉOTECHNIQUES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/044921    N° de la demande internationale :    PCT/CA2015/000505
Date de publication : 31.03.2016 Date de dépôt international : 25.09.2015
CIB :
C02F 1/469 (2006.01), B01D 17/06 (2006.01), B01J 19/08 (2006.01), C10G 1/04 (2006.01), C02F 11/12 (2006.01)
Déposants : ELECTROKINETIC SOLUTIONS INCORPORATED [CA/CA]; 60 Adelaide Street East, Suite 501, Box No. 9 Toronto, Ontario M5C 3E4 (CA)
Inventeurs : BEATTIE, Bruce, S.; (US).
GARCIA, Paul; (US).
KIMZEY, Doug; (US).
HARRIS, Ben; (US).
PARROTT, Robert, C.; (US).
MICAK, James; (CA).
FALERO, Robert; (US)
Mandataire : NENNIGER, James, T.; Piasetzki Nenniger Kvas LLP 120 Adelaide Street West, Suite 2308 Toronto, Ontario M5H 1T1 (CA)
Données relatives à la priorité :
2,865,400 26.09.2014 CA
Titre (EN) TITLE: METHOD OF ELECTROTREATING TAILINGS TO CREATE GEOTECHNICAL STRUCTURES
(FR) PROCÉDÉ D'ÉLECTRO-TRAITEMENT DE RÉSIDUS POUR CRÉER DES STRUCTURES GÉOTECHNIQUES
Abrégé : front page image
(EN)A method of electro treating tailings in a containment structure to cause a separation of at least some water from said tailings and a consolidation and compaction of at least some solid particles is shown. The method includes placing a plurality of first electrodes in the tailings to be treated generally along one side of a predetermined volume and placing a plurality of second electrodes in the tailings to be treated generally along an opposite side of said volume to the plurality of first electrodes, said first and second electrodes being spaced apart by a predetermined distance. The next step is applying a treatment current across said distance between said spaced first and second electrodes to create an electrical field which causes solids to consolidate at one of said plurality of first and second electrodes; and creating a geotechnical structure within said volume comprised of dewatered solids consolidated from said tailings around one of said electrodes. The geotechnical structure may be a layer at the bottom of the containment structure, along a side of the containment structure or across the top of a containment structure.
(FR)L'invention concerne un procédé d'électro-traitement de résidus dans une structure de confinement pour provoquer une séparation d'au moins une partie de l'eau à partir desdits résidus et une consolidation et un compactage d'au moins certaines des particules solides. Le procédé consiste à placer une pluralité de premières électrodes dans les résidus à traiter généralement le long d'un côté d'un volume prédéterminé et à placer une pluralité de secondes électrodes dans les résidus à traiter généralement le long d'un côté opposé dudit volume par rapport à la pluralité de premières électrodes, lesdites première et seconde électrodes étant espacées d'une distance prédéterminée. L'étape suivante est l'application d'un courant de traitement à travers ladite distance entre lesdites première et seconde électrodes espacées afin de créer un champ électrique qui provoque la consolidation de matières solides au niveau d'une parmi ladite pluralité de première et seconde électrodes; et la création d'une structure géotechnique à l'intérieur dudit volume constitué de matières solides déshydratées consolidées à partir desdits résidus autour de l'une desdites électrodes. La structure géotechnique peut être une couche au fond de la structure de confinement, le long d'un côté de la structure de confinement ou à travers la partie supérieure d'une structure de confinement.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)