WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2016043941) COMPOSÉS DÉRIVÉS SULFONIQUES UTILISÉS EN TANT QUE PHOTOGÉNÉRATEURS D'ACIDES DANS DES APPLICATIONS DE PHOTORÉSINE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/043941    N° de la demande internationale :    PCT/US2015/047089
Date de publication : 24.03.2016 Date de dépôt international : 27.08.2015
CIB :
C07D 221/14 (2006.01), G03F 7/004 (2006.01), C09K 3/00 (2006.01)
Déposants : HERAEUS PRECIOUS METALS NORTH AMERICA DAYCHEM LLC [US/US]; 970 Industrial Park Drive Vandalia, OH 45377 (US)
Inventeurs : ZHANG, Yongqiang; (US).
SHARMA, Ram, B.; (US).
STUCK, Rachael; (US).
GREENE, Daniel; (US).
GUPTA, Rakesh; (US).
FOGLE, Jeffrey, D.; (US)
Mandataire : ROSSI, Joseph D.; (US)
Données relatives à la priorité :
14/490,056 18.09.2014 US
Titre (EN) SULFONIC DERIVATIVE COMPOUNDS AS PHOTOACID GENERATORS IN RESIST APPLICATIONS
(FR) COMPOSÉS DÉRIVÉS SULFONIQUES UTILISÉS EN TANT QUE PHOTOGÉNÉRATEURS D'ACIDES DANS DES APPLICATIONS DE PHOTORÉSINE
Abrégé : front page image
(EN)Novel photoacid generator compounds are provided. Photoresist compositions that include the novel photoacid generator compounds are also provided. The invention further provides methods of making and using the photoacid generator compounds and photoresist compositions disclosed herein. The compounds and compositions are useful as photoactive components in chemically amplified resist compositions for various microfabrication applications.
(FR)L'invention concerne de nouveaux composés photogénérateurs d'acides. L'invention concerne également des compositions de photorésine qui comprennent ces nouveaux composés photogénérateurs d'acides. L'invention concerne en outre des procédés de fabrication et d'utilisation des composés photogénérateurs d'acides et des compositions de photorésine selon l'invention. Ces composés et compositions sont utiles comme composants photoactifs dans des compositions de photorésine chimiquement amplifiées pour diverses applications de microfabrication.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)