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1. (WO2016039881) SYSTÈME DE GRAVURE AU LASER COMPRENANT UN RÉTICULE DE MASQUE POUR GRAVURE À DE MULTIPLES PROFONDEURS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/039881    N° de la demande internationale :    PCT/US2015/042772
Date de publication : 17.03.2016 Date de dépôt international : 30.07.2015
CIB :
B23K 26/00 (2014.01)
Déposants : SUSS MICROTEC PHOTONIC SYSTEMS, INC. [US/US]; 220 Klug Circle Corona, California 92880-5409 (US).
INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION [US/US]; New Orchard Road Armonk, New York 10504 (US)
Inventeurs : SOUTER, Matthew E.; (US).
ERWIN, Brian M.; (US).
POLOMOFF, Nicholas A.; (US).
TESSLER, Christopher L.; (US)
Mandataire : SULLIVAN, Sean F.; (US)
Données relatives à la priorité :
14/483,321 11.09.2014 US
Titre (EN) LASER ETCHING SYSTEM INCLUDING MASK RETICLE FOR MULTI-DEPTH ETCHING
(FR) SYSTÈME DE GRAVURE AU LASER COMPRENANT UN RÉTICULE DE MASQUE POUR GRAVURE À DE MULTIPLES PROFONDEURS
Abrégé : front page image
(EN)A laser etching system includes a laser source configured to generate a plurality of laser pulses during an etching pass. A workpiece is aligned with respect to the laser source. The workpiece includes an etching material that is etched in response to receiving the plurality of laser pulses. A mask reticle is interposed between the laser source and the workpiece. The mask reticle includes at least one mask pattern configured to regulate the fluence or a number of laser pulses realized by the workpiece such that a plurality of features having different depths with respect to one another are etched in the etching material.
(FR)L'invention porte sur un système de gravure au laser, lequel système comprend une source de laser configurée de façon à générer une pluralité d'impulsions de laser pendant une passe de gravure. Une pièce à travailler est alignée par rapport à la source de laser. La pièce à travailler comprend un matériau de gravure qui est gravé en réponse à la réception de la pluralité d'impulsions de laser. Un réticule de masque est interposé entre la source de laser et la pièce à travailler. Le réticule de masque comprend au moins un motif de masque conçu de façon à réguler la fluence ou un nombre d'impulsions de laser réalisées par la pièce à travailler, de telle sorte qu'une pluralité d'éléments ayant des profondeurs différentes les uns par rapport aux autres sont gravés dans le matériau de gravure.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)