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1. (WO2016039527) APPAREIL ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF TRIDIMENSIONNEL, ET MOTIF TRIDIMENSIONNEL AINSI FORMÉ
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/039527    N° de la demande internationale :    PCT/KR2015/008224
Date de publication : 17.03.2016 Date de dépôt international : 06.08.2015
CIB :
H01Q 1/38 (2006.01)
Déposants : EMW CO.,LTD. [KR/KR]; 155, Namdongseo-ro Namdong-gu Incheon 21695 (KR)
Inventeurs : SEONG, Won Mo; (KR)
Données relatives à la priorité :
10-2014-0107711 19.08.2014 KR
Titre (EN) APPARATUS AND METHOD FOR FORMING THREE DIMENSIONAL PATTERN, AND THREE DIMENSIONAL PATTERN FORMED THEREBY
(FR) APPAREIL ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF TRIDIMENSIONNEL, ET MOTIF TRIDIMENSIONNEL AINSI FORMÉ
(KO) 3차원 패턴의 형성 장치, 방법 및 이에 의해 형성되는 3차원 패턴
Abrégé : front page image
(EN)A method for forming a three dimensional pattern and a three dimensional pattern formed by the method are provided. A method for forming a three dimensional pattern according to one embodiment of the present invention comprises: a step in which predetermined fine particles are injected into a target object via an injection nozzle; a step in which the fine particles penetrate the target object; and a step in which at least one of the injection location and injection energy of the fine particles is controlled, thereby forming a three dimensional pattern in the inside of the target object.
(FR)L'invention concerne un procédé de formation de motif tridimensionnel et un motif tridimensionnel formé au moyen dudit procédé. Un procédé de formation de motif tridimensionnel selon un mode de réalisation de la présente invention comprend : une étape au cours de laquelle de fines particules prédéfinies sont injectées dans un objet cible par le bais d'une buse d'injection; une étape au cours de laquelle les fines particules pénètrent l'objet cible; et une étape au cours de laquelle l'emplacement d'injection et/ou l'énergie d'injection des particules fines sont contrôlés, ce qui permet de former un motif tridimensionnel à l'intérieur de l'objet cible.
(KO)3차원 패턴의 형성 방법 및 이에 의해 형성되는 3차원 패턴이 제공된다. 본 발명의 일 실시예에 따른 3차원 패턴의 형성 방법은, 분사 노즐을 통해 소정의 미세입자가 대상체로 분사되는 단계; 상기 미세입자가 상기 대상체의 내부로 침투되는 단계; 및 상기 미세입자의 분사 위치 및 분사 에너지 중 적어도 하나가 조절됨으로써 상기 대상체의 내부에 3차원 패턴이 형성되는 단계를 포함한다.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : coréen (KO)
Langue de dépôt : coréen (KO)