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1. (WO2016039164) PLAQUE DE PROTECTION DE CRISTAUX LIQUIDES ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/039164    N° de la demande internationale :    PCT/JP2015/074323
Date de publication : 17.03.2016 Date de dépôt international : 28.08.2015
CIB :
G02F 1/1333 (2006.01), C04B 35/443 (2006.01)
Déposants : SUMITOMO ELECTRIC INDUSTRIES, LTD. [JP/JP]; 5-33, Kitahama 4-chome, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 5410041 (JP)
Inventeurs : GESHI, Keiichiro; (JP).
NAKAYAMA, Shigeru; (JP).
YOSHIMURA, Masashi; (JP)
Mandataire : NAKATA, Motomi; (JP)
Données relatives à la priorité :
2014-186571 12.09.2014 JP
Titre (EN) LIQUID CRYSTAL PROTECTION PLATE AND METHOD FOR PRODUCING LIQUID CRYSTAL PROTECTION PLATE
(FR) PLAQUE DE PROTECTION DE CRISTAUX LIQUIDES ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
(JA) 液晶保護板および液晶保護板の製造方法
Abrégé : front page image
(EN)Provided are: a liquid crystal protection plate which has excellent strength and a shape including a curved surface, while being suppressed in the production cost; and a method for producing this liquid crystal protection plate. A liquid crystal protection plate which is formed of a spinel sintered body that has an average particle diameter of from 10 μm to 100 μm (inclusive). This liquid crystal protection plate has a shape that includes a curved surface.
(FR)L'invention concerne : une plaque de protection de cristaux liquides qui présente une excellente résistance et une forme comprenant une surface incurvée, tout en en contenant le coût de fabrication ; un procédé pour fabriquer cette plaque de protection de cristaux liquides. Une plaque de protection de cristaux liquides est formée d'un corps fritté en spinelle dont le diamètre moyen de particule est de 10 μm à 100 μm (inclus). La forme de cette plaque de protection de cristaux liquides comprend une surface incurvée.
(JA) 優れた強度を有しつつ、製造コストの抑制された、曲面を含む形状を有する液晶保護板および該液晶保護板の製造方法を提供する。スピネル焼結体で形成される液晶保護板であって、前記スピネル焼結体は、平均粒径が10μm以上100μm以下であり、前記液晶保護板は、曲面を含む形状を有する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)