WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2016038594) PROCÉDÉ ET SYSTÈME DE DIFFUSOMÉTRIE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/038594    N° de la demande internationale :    PCT/IL2015/000042
Date de publication : 17.03.2016 Date de dépôt international : 16.09.2015
CIB :
G06F 19/00 (2011.01), G01B 11/14 (2006.01)
Déposants : NOVA MEASURING INSTRUMENTS LTD. [IL/IL]; Weizmann Scientific Park Bldg.22, POB 266 76100 Rehovot (IL)
Inventeurs : VAID, Alok,; (US).
WAINREB, Gilad; (IL).
LITTWIN, Etai; (IL).
KLOTS, Michael; (IL).
BOZDOG, Cornel; (US).
SENDELBACH, Matthew; (US)
Données relatives à la priorité :
62/050,146 14.09.2014 US
Titre (EN) SCATTEROMETRY METHOD AND SYSTEM
(FR) PROCÉDÉ ET SYSTÈME DE DIFFUSOMÉTRIE
Abrégé : front page image
(EN)A method and system are presented for use in model-based optical measurements in patterned structures. The method comprises: selecting an optimal optical model for interpretation of optical measured data indicative of optical response of the structure under measurements. The selection of the optimal optical model comprises: creating a complete optical model with floating parameters defining multiple configurations of said complete model including one or more model configurations describing an optical response of the structure under measurements, utilizing the complete model for predicting a reference optical response from the structure and generating corresponding virtual reference data, and using the virtual reference data for selecting the optimal optical model for interpretation of the optical measured data.
(FR)L’invention concerne un procédé et un système destinés à être utilisés dans des mesures optiques basées sur un modèle dans des structures à motifs. Le procédé consiste à : sélectionner un modèle optique optimal pour l’interprétation de données mesurées optiques indicatives d’une réponse optique de la structure soumise à des mesures. La sélection du modèle optique optimal consiste à : créer un modèle optique entier, des paramètres flottants définissant de multiples configurations dudit modèle entier comprenant une ou plusieurs configurations de modèle décrivant une réponse optique de la structure soumise à des mesures, utiliser le modèle entier pour prédire une réponse optique de référence à partir de la structure et générer des données de référence virtuelles correspondantes, et utiliser les données de référence virtuelles pour sélectionner le modèle optique optimal pour l’interprétation des données mesurées optiques.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)