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1. (WO2016038476) COMPOSITIONS DE PHOTORÉSINE DE TON NÉGATIF ET POLYMÈRES MULTIFONCTIONNELS CONTENUS DANS CELLES-CI
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/038476    N° de la demande internationale :    PCT/IB2015/055621
Date de publication : 17.03.2016 Date de dépôt international : 24.07.2015
CIB :
G03F 7/004 (2006.01), G03F 7/038 (2006.01)
Déposants : INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION [US/US]; New Orchard Road Armonk, New York 10504 (US).
SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD [JP/JP]; 6-1, Ohtemachi 2-chome Chiyoda-ku Tokyo 100-0004 (JP).
IBM UNITED KINGDOM LIMITED [GB/GB]; PO Box 41, North Harbour Portsmouth Hampshire PO6 3AU (GB) (MG only).
IBM JAPAN LIMITED [JP/JP]; 19-21 Nihonbashi Hakozaki-cho, Chuo-ku Tokyo 103-8510 (JP) (MG only)
Inventeurs : SOORIYAKUMARAN, Ratnam; (US).
SUNDBERG, Linda, Karin; (US).
SANCHEZ, Martha, Inez; (US).
BOZANO, Luisa, Dominica; (US).
SANDERS, Daniel, Paul; (US).
WATANABE, Satoshi; (JP).
MASUNAGA, Keiichi; (JP).
DOMON, Daisuke; (JP).
KAWAI, Yoshio; (JP)
Mandataire : GASCOYNE, Belinda; (GB)
Données relatives à la priorité :
14/479,378 08.09.2014 US
Titre (EN) NEGATIVE-TONE RESIST COMPOSITIONS AND MULTIFUNCTIONAL POLYMERS THEREIN
(FR) COMPOSITIONS DE PHOTORÉSINE DE TON NÉGATIF ET POLYMÈRES MULTIFONCTIONNELS CONTENUS DANS CELLES-CI
Abrégé : front page image
(EN)A negative-tone resist composition is provided that contains a free photoacid generator and a multifunctional polymer covalently bound to a photoacid-generating moiety, where the composition is substantially free of cross-linking agents. Multifunctional polymers useful in conjunction with the resist composition are also provided, as is a process for generating a resist image on a substrate using the present compositions and polymers.
(FR)L'invention concerne une composition de photorésine de ton négatif qui contient un générateur photoacide libre et un polymère multifonctionnel lié de manière covalente à une fraction de génération de photoacide, la composition étant sensiblement dépourvue d'agents de réticulation. Elle concerne également des polymères multifonctionnels utiles conjointement avec la composition de photorésine, ainsi qu'un procédé pour générer une image de photorésine sur un substrat à l'aide de ces compositions et de ces polymères.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)