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1. (WO2016035415) CIBLE DE PULVÉRISATION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/035415    N° de la demande internationale :    PCT/JP2015/067226
Date de publication : 10.03.2016 Date de dépôt international : 16.06.2015
CIB :
C23C 14/34 (2006.01), C22C 5/04 (2006.01), C22C 19/07 (2006.01), C22C 32/00 (2006.01), G11B 5/851 (2006.01)
Déposants : JX NIPPON MINING & METALS CORPORATION [JP/JP]; 1-2, Otemachi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008164 (JP)
Inventeurs : ARAKAWA Atsutoshi; (JP).
MORISHITA Yuto; (JP)
Mandataire : OGOSHI Isamu; (JP)
Données relatives à la priorité :
2014-179783 04.09.2014 JP
Titre (EN) SPUTTERING TARGET
(FR) CIBLE DE PULVÉRISATION
(JA) スパッタリングターゲット
Abrégé : front page image
(EN)Provided is a sputtering target containing: an alloy including Co or Fe as a main component; and an oxide including Mn and B. The sputtering target is characterized by having the composition, which satisfies the conditions of 9 at% ≦ Mn+B+O ≦ 56 at%, B ≦ Mn (at%), and Mn+B ≦ O (at%). This sputtering target is capable of suppressing abnormal discharge which is caused by a non-magnetic material and results in the formation of particles during sputtering.
(FR)L'invention concerne une cible de pulvérisation contenant : un alliage comprenant du Co ou du Fe comme composant principal; et un oxyde comprenant du Mn et du B. La cible de pulvérisation est caractérisée en ce qu'elle a la composition, qui satisfait les conditions de 9% at. ≦ Mn + B + O ≦ 56% at., B ≦ Mn (% at.), et Mn + B ≦ O (% at.) Cette cible de pulvérisation est capable de supprimer une décharge anormale qui est provoquée par un matériau non magnétique et entraîne la formation de particules pendant la pulvérisation.
(JA) Co又はFeを主成分とする合金と、Mn及びBを含む酸化物を含有するスパッタリングターゲットであって、前記スパッタリングターゲットの組成において、9at%≦Mn+B+O≦56at%、B≦Mn(at%)、Mn+B≦O(at%)、の条件を満たすことを特徴とするスパッタリングターゲットであって、スパッタリング時のパーティクル発生の原因となる非磁性材料に起因する異常放電を抑制することができる。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)