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1. (WO2016014762) EXTRACTION DE PHOTONS À PARTIR DE DISPOSITIFS ÉMETTEURS DE LUMIÈRE ULTRAVIOLETTE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/014762    N° de la demande internationale :    PCT/US2015/041689
Date de publication : 28.01.2016 Date de dépôt international : 23.07.2015
CIB :
H01L 33/52 (2010.01)
Déposants : CRYSTAL IS, INC. [US/US]; 70 Cohoes Avenue Green Island, NY 12183 (US)
Inventeurs : KITAMURA, Ken; (JP).
TOITA, Masato; (JP).
ISHII, Hironori; (JP).
WANG, Yuting; (JP).
SCHOWALTER, Leo, J.; (US).
CHEN, Jianfeng; (US).
GRANDUSKY, James, R.; (US)
Mandataire : CURRIE, Matthew, T.; (US)
Données relatives à la priorité :
62/027,968 23.07.2014 US
Titre (EN) PHOTON EXTRACTION FROM ULTRAVIOLET LIGHT-EMITTING DEVICES
(FR) EXTRACTION DE PHOTONS À PARTIR DE DISPOSITIFS ÉMETTEURS DE LUMIÈRE ULTRAVIOLETTE
Abrégé : front page image
(EN)In various embodiments, a layer of organic encapsulant is provided over a surface of an ultraviolet (UV) light-emitting semiconductor die, and at least a portion of the encapsulant is exposed to UV light to convert at least some of said portion of the encapsulant into non- stoichiometric silica material. The non-stoichiometric silica material includes silicon, oxygen, and carbon, and a carbon content of the non-stoichiometric silica material is greater than 1 ppm and less than 40 atomic percent.
(FR)Dans divers modes de réalisation de l'invention, une couche d'agent d'encapsulation organique est disposée au-dessus de la surface d'une puce de semi-conducteur émettant de la lumière ultraviolette (UV), et au moins une partie de l'agent d'encapsulation est exposée à la lumière UV pour convertir au moins une portion de ladite partie de l'agent d'encapsulation en matériau de silice non-stœchiométrique. Le matériau de silice non-stœchiométrique comprend du silicium, de l'oxygène et du carbone, et la teneur en carbone du matériau de silice non stœchiométrique est supérieure à 1 ppm et inférieure à 40 en pourcentage atomique.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)