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1. (WO2016013762) APPAREIL ET PROCÉDÉ D'ENCAPSULATION DE SUBSTRAT D'AFFICHAGE SOUPLE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/013762    N° de la demande internationale :    PCT/KR2015/006017
Date de publication : 28.01.2016 Date de dépôt international : 15.06.2015
CIB :
H01L 51/56 (2006.01), H01L 27/32 (2006.01)
Déposants : ESM CO.,LTD [KR/KR]; 204, Gomae-ro, Giheung-gu Yongin-si Gyeonggi-do 446-901 (KR)
Inventeurs : LEE, Seung Kwang; (KR).
CHO, Chang Hyun; (KR).
KIM, Young Jun; (KR)
Mandataire : CHO, Yunkoo; (KR)
Données relatives à la priorité :
10-2014-0093252 23.07.2014 KR
Titre (EN) APPARATUS AND METHOD FOR ENCAPSULATING FLEXIBLE DISPLAY SUBSTRATE
(FR) APPAREIL ET PROCÉDÉ D'ENCAPSULATION DE SUBSTRAT D'AFFICHAGE SOUPLE
(KO) 플렉서블 디스플레이 기판의 봉지 처리 장치 및 방법
Abrégé : front page image
(EN)An apparatus and a method for encapsulating a flexible display substrate are disclosed. The apparatus for encapsulating a flexible display substrate comprises: a jig on which a flexible substrate is to be placed; a first spray unit for spraying an inorganic material at the surface of the flexible substrate; a second spray unit for spraying an organic material at the surface of the flexible substrate; an ion beam generation unit for emitting an ion beam, generated by accelerating ions, at the surface of the flexible substrate at which the inorganic material and the organic material are sprayed; and a differential vacuum chamber for differently setting a vacuum degree of the ion beam generation unit and a vacuum degree of a space in which the first spray unit, the second spray unit, and the jig are formed. The ion beam generation unit can generate the ion beam having ion beam energy between a first threshold value and a second threshold value such that the accelerated ion beam is put into the surface of the flexible substrate with the inorganic material and organic material to be sprayed.
(FR)La présente invention concerne un appareil et un procédé d'encapsulation de substrat d'affichage souple. L'appareil d'encapsulation d'un substrat d'affichage souple comprend : un gabarit sur lequel un substrat souple est destiné à être placé ; une première unité de pulvérisation permettant de pulvériser une substance inorganique au niveau de la surface du substrat souple ; une seconde unité de pulvérisation permettant de pulvériser une substance organique au niveau de la surface du substrat souple ; une unité de génération de faisceau d'ions permettant d'émettre un faisceau d'ions, généré par accélération d'ions, au niveau de la surface du substrat souple au niveau duquel la substance inorganique et la substance organique sont pulvérisées ; et une chambre à vide différentielle permettant d'établir différemment un degré de vide de l'unité de génération de faisceau d'ions et un degré de vide d'un espace dans lequel sont formés la première unité de pulvérisation, la seconde unité de pulvérisation et le gabarit. L'unité de génération de faisceau d'ions peut générer le faisceau d'ions présentant une énergie de faisceau d'ions entre une première valeur seuil et une seconde valeur seuil, de sorte que le faisceau d'ions accélérés soit appliqué dans la surface du substrat souple avec la substance inorganique et la substance organique devant être pulvérisées.
(KO)플렉서블 디스플레이 기판의 봉지 처리장치 및 방법이 개시된다. 상기 플렉서블 디스플레이 기판의 봉지 처리장치는 플렉서블 기판이 거치되는 지그, 무기물을 상기 플렉서블 기판의 표면에 분사하는 제 1 분사부, 유기물을 상기 플렉서블 기판의 표면에 분사하는 제 2 분사부, 이온을 가속시켜 생성된 이온빔을 상기 무기물 및 유기물이 분사되는 상기 플렉서블 기판의 표면으로 조사하는 이온빔생성부 및 상기 이온빔생성부의 진공도와 상기 제 1 분사부, 상기 제 2 분사부 및 상기 지그가 형성되는 공간의 진공도를 상이하게 설정하는 차등진공챔버를 구비할 수 있다. 상기 이온빔생성부는, 상기 가속된 이온빔이 상기 분사되는 무기물 및 유기물과 함께 상기 플렉서블 기판의 표면 내부에 주입되도록 제 1 임계값과 제 2 임계값 사이의 이온빔에너지를 가지는 상기 이온빔을 생성할 수 있다.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : coréen (KO)
Langue de dépôt : coréen (KO)