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1. (WO2016013550) GÉNÉRATEUR DE LUMIÈRE ULTRAVIOLETTE EXTRÊME
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/013550    N° de la demande internationale :    PCT/JP2015/070740
Date de publication : 28.01.2016 Date de dépôt international : 21.07.2015
CIB :
H05G 2/00 (2006.01)
Déposants : GIGAPHOTON INC. [JP/JP]; 400, Oaza Yokokurashinden, Oyama-shi, Tochigi 3238558 (JP)
Inventeurs : YABU Takayuki; (JP).
HOSODA Hirokazu; (JP).
ISHII Takuya; (JP)
Mandataire : EBISU INTERNATIONAL PATENT OFFICE; Gate City Ohsaki,East Tower 22F,11-2 Osaki 1-chome,Shinagawa-ku, Tokyo 1410032 (JP)
Données relatives à la priorité :
PCT/JP2014/069715 25.07.2014 JP
Titre (EN) EXTREME UV LIGHT GENERATOR
(FR) GÉNÉRATEUR DE LUMIÈRE ULTRAVIOLETTE EXTRÊME
(JA) 極端紫外光生成装置
Abrégé : front page image
(EN) The present invention improves the energy stability of EUV light. An extreme UV light generation device is provided with a chamber in which extreme UV light is generated from a plasma produced by directing a laser beam at a target supplied to the interior of the chamber, a target generator for supplying the target as droplets to the interior of the chamber, a droplet measurement instrument for measuring the droplets supplied to the interior of the chamber from the target generator, and a shielding member for shielding the droplet measurement instrument from electromagnetic waves radiated from the plasma. The droplet measurement instrument includes a light source for irradiating the droplet with continuous light, a window provided to the chamber so as to transmit the continuous light, and a light sensor for receiving the continuous light through the window. The shielding member may include a shielding body provided on the chamber-interior side of the window and formed so as to cover the light path of the continuous light.
(FR) La présente invention améliore la stabilité énergétique de la lumière ultraviolette extrême. Un dispositif de génération de lumière UV extrême est pourvu d'une chambre dans laquelle de la lumière UV extrême est générée à partir d'un plasma produit en dirigeant un faisceau laser vers une cible fournie à l'intérieur de la chambre, d'un générateur de cible pour fournir la cible sous forme de gouttelettes à l'intérieur de la chambre, d'un instrument de mesure de gouttelette qui sert à mesurer les gouttelettes fournies à l'intérieur de la chambre à partir du générateur de cible, et d'un élément de protection pour protéger l'instrument de mesure de gouttelettes d'ondes électromagnétiques rayonnées par le plasma. L'instrument de mesure de gouttelettes comprend une source lumineuse pour irradier la gouttelette avec de la lumière continue, une fenêtre prévue sur la chambre afin de transmettre la lumière continue, et un capteur de lumière pour recevoir la lumière continue à travers la fenêtre. L'élément de protection peut comprendre un corps de protection prévu sur le côté intérieur de chambre de la fenêtre et formé de manière à couvrir le trajet lumineux de la lumière continue.
(JA) EUV光のエネルギー安定性を向上させる。 極端紫外光生成装置は、内部に供給されたターゲットにレーザ光が照射されることで発生するプラズマから極端紫外光が生成されるチャンバと、前記ターゲットをドロップレットとして前記チャンバの内部に供給するターゲット生成器と、前記ターゲット生成器から前記チャンバの内部に供給された前記ドロップレットを計測するドロップレット計測器と、前記プラズマから放射される電磁波から前記ドロップレット計測器を遮蔽する遮蔽部材と、を備え、前記ドロップレット計測器は、前記ドロップレットに連続光を照射する光源と、前記チャンバに設けられ前記連続光を透過するウインドウと、前記ウインドウを介して前記連続光を受光する光センサと、を含み、前記遮蔽部材は、前記ウインドウの前記チャンバ内部側に対して設けられ前記連続光の光路を覆うように形成された遮蔽体を含んでもよい。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)