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1. (WO2016013495) STRUCTURE EN ALLIAGE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE STRUCTURE EN ALLIAGE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/013495    N° de la demande internationale :    PCT/JP2015/070468
Date de publication : 28.01.2016 Date de dépôt international : 17.07.2015
CIB :
C22C 30/00 (2006.01), B22F 1/00 (2006.01), B22F 3/105 (2006.01), B22F 3/16 (2006.01), B33Y 10/00 (2015.01), B33Y 80/00 (2015.01)
Déposants : HITACHI, LTD. [JP/JP]; 6-6, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008280 (JP)
Inventeurs : KATO Takahiko; (JP).
KUWABARA Kousuke; (JP).
FUJIEDA Tadashi; (JP).
AOTA Kinya; (JP).
TAKAHASHI Isamu; (JP).
SATAKE Hiroyuki; (JP).
YAMAGA Kenji; (JP).
MURAKAMI Hajime; (JP)
Mandataire : INOUE Manabu; (JP)
Données relatives à la priorité :
2014-150020 23.07.2014 JP
2014-151332 25.07.2014 JP
2014-151333 25.07.2014 JP
Titre (EN) ALLOY STRUCTURE AND MANUFACTURING METHOD OF ALLOY STRUCTURE
(FR) STRUCTURE EN ALLIAGE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE STRUCTURE EN ALLIAGE
(JA) 合金構造体及び合金構造体の製造方法
Abrégé : front page image
(EN)An alloy structure of any shape and size is provided that has a high uniformity of elemental composition and mechanical strength distribution, and has excellent high temperature strength and corrosion resistance. This alloy structure is characterized by containing Al, Co, Cr, Fe and Ni in an atomic concentration of 5-30at% each, by the difference in atomic concentration of at least four of the aforementioned elements being less than 3at%, by the host crystal being a columnar crystal that is a solid solution of the aforementioned five elements, and by containing, as unavoidable impurities, an atomic concentration of less than or equal to 0.005 wt% of P, less than or equal to 0.040 wt% of Si, less than or equal to 0.002 wt% of S, less than or equal to 0.005 wt% of Sn, less than or equal to 0.002 wt% of Sb, less than or equal to 0.005 wt% of As, less than or equal to 0.050 wt% of Mn, less than or equal to 0.001 wt% of O, and less than or equal to 0.002 wt% of N.
(FR)L'invention porte sur une structure en alliage de forme et de taille quelconques, qui a une grande uniformité de composition élémentaire et de distribution de la résistance mécanique et qui a d'excellentes résistance à haute température et résistance à la corrosion. Cette structure en alliage est caractérisée en ce qu'elle contient de l'Al, du Co, du Cr, du Fe et du Ni en une concentration atomique de 5 à 30 % at. chacun, en ce que la différence entre les concentrations atomiques d'au moins quatre des éléments susmentionnés est inférieure à 3 % at., en ce que le cristal hôte est un cristal en forme de colonne qui est une solution solide des cinq éléments susmentionnés et en ce qu'elle contient, en tant qu'impuretés inévitables, une concentration atomique inférieure ou égale à 0,005 % en poids de P, inférieure ou égale à 0,040 % en poids de Si, inférieure ou égale à 0,002 % en poids de S, inférieure ou égale à 0,005 % en poids de Sn, inférieure ou égale à 0,002 % en poids de Sb, inférieure ou égale à 0,005 % en poids d'As, inférieure ou égale à 0,050 % en poids de Mn, inférieure ou égale à 0,001 % en poids d'O et inférieure ou égale à 0,002 % en poids de N.
(JA) 元素組成及び機械的強度の分布の均一性が高く、良好な高温強度と耐食性とを有する任意の形状寸法の合金構造体を提供する。 Al、Co、Cr、Fe及びNiをそれぞれ5at%以上30at%以下の原子濃度の範囲で含有すると共に、前記元素のうち少なくとも4種の元素の原子濃度の差が3at%未満の範囲にあり、前記5種の元素が固溶した柱状晶を主晶とし、 不可避的不純物として、Pを0.005wt%以下、Siを0.040wt%以下、Sを0.002wt%以下、Snを0.005wt%以下、Sbを0.002wt%以下、Asを0.005wt%以下、Mnを0.050wt%以下、Oを0.001wt%以下 、Nを0.002wt%以下の原子濃度の範囲で含有することを特徴とする合金構造体。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)