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1. (WO2016013403) POLYIMIDE, ACIDE POLYAMIQUE, COMPOSITION DE RÉSINE ET SUBSTRAT POUR DISPOSITIF D'AFFICHAGE FLEXIBLE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/013403    N° de la demande internationale :    PCT/JP2015/069729
Date de publication : 28.01.2016 Date de dépôt international : 09.07.2015
CIB :
C08G 73/10 (2006.01), C08L 79/08 (2006.01), H01L 51/50 (2006.01), H05B 33/02 (2006.01)
Déposants : DEXERIALS CORPORATION [JP/JP]; Gate City Osaki, East Tower 8th Floor, 11-2, Osaki 1-chome, Shinagawa-ku, Tokyo 1410032 (JP)
Inventeurs : SUNAGA, Tomoyasu; (JP).
ISHII, Junichi; (JP).
HASEGAWA, Masatoshi; (JP)
Mandataire : HIROTA, Koichi; (JP)
Données relatives à la priorité :
2014-150446 24.07.2014 JP
Titre (EN) POLYIMIDE, POLYAMIC ACID, RESIN COMPOSITION AND SUBSTRATE FOR FLEXIBLE DISPLAY
(FR) POLYIMIDE, ACIDE POLYAMIQUE, COMPOSITION DE RÉSINE ET SUBSTRAT POUR DISPOSITIF D'AFFICHAGE FLEXIBLE
(JA) ポリイミド、ポリアミド酸、樹脂組成物、及びフレキシブルディスプレイ用基板
Abrégé : front page image
(EN)A polyimide obtained by reacting a tetracarboxylic acid component with a diamine component, wherein: the tetracarboxylic acid component contains a compound represented by structural formula (1); and the diamine component contains a compound represented by structural formula (2) in an amount of 60 mol% or greater.
(FR)On obtient un polyimide en faisant réagir un composant d'acide tétracarboxylique avec un composant diamine : le composant d'acide tétracarboxylique contient un composé représenté par la formule structurelle (1) ; et le composant diamine contient un composé représenté par la formule structurale (2) dans des quantités de 60 % molaires ou plus.
(JA) テトラカルボン酸成分と、ジアミン成分とを反応して得られるポリイミドであって、 前記テトラカルボン酸成分が、下記構造式(1)で表される化合物を含有し、 前記ジアミン成分が、下記構造式(2)で表される化合物を、60モル%以上含有するポリイミド。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)