Certains contenus de cette application ne sont pas disponibles pour le moment.
Si cette situation persiste, veuillez nous contacter àObservations et contact
1. (WO2016012426) PROCÉDÉ DE MESURE TRIDIMENSIONNELLE D'UNE PRISE DE VUE AÉRIENNE 3D D'UN MASQUE DE LITHOGRAPHIE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication : WO/2016/012426 N° de la demande internationale : PCT/EP2015/066605
Date de publication : 28.01.2016 Date de dépôt international : 21.07.2015
CIB :
G02B 17/08 (2006.01) ,G02B 5/00 (2006.01) ,G03F 1/00 (2012.01) ,G21K 7/00 (2006.01)
G PHYSIQUE
02
OPTIQUE
B
ÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
17
Systèmes avec surfaces réfléchissantes, avec ou sans éléments de réfraction
08
Systèmes catadioptriques
G PHYSIQUE
02
OPTIQUE
B
ÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
5
Eléments optiques autres que les lentilles
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
1
Originaux pour la production par voie photomécanique de surfaces texturées, p.ex. masques, photomasques ou réticules; Masques vierges ou pellicules à cet effet; Réceptacles spécialement adaptés à ces originaux; Leur préparation
G PHYSIQUE
21
PHYSIQUE NUCLÉAIRE; TECHNIQUE NUCLÉAIRE
K
TECHNIQUES NON PRÉVUES AILLEURS POUR MANIPULER DES PARTICULES OU DES RAYONNEMENTS IONISANTS; DISPOSITIFS D'IRRADIATION; MICROSCOPES À RAYONS GAMMA OU À RAYONS X
7
Microscopes à rayons gamma ou à rayons X
Déposants :
CARL ZEISS SMT GMBH [DE/DE]; Rudolf-Eber-Strasse 2 73447 Oberkochen, DE
Inventeurs :
MATEJKA, Ulrich; DE
HUSEMANN, Christoph; DE
RUOFF, Johannes; DE
PERLITZ, Sascha; DE
MANN, Hans-Jürgen; DE
Mandataire :
RAU, SCHNECK & HÜBNER PATENTANWÄLTE RECHTSANWÄLTE PARTGMBB; Königstrasse 2 90402 Nürnberg, DE
Données relatives à la priorité :
10 2014 214 257.122.07.2014DE
10 2014 217 229.228.08.2014DE
Titre (EN) METHOD FOR THREE-DIMENSIONALLY MEASURING A 3D AERIAL IMAGE OF A LITHOGRAPHY MASK
(FR) PROCÉDÉ DE MESURE TRIDIMENSIONNELLE D'UNE PRISE DE VUE AÉRIENNE 3D D'UN MASQUE DE LITHOGRAPHIE
(DE) VERFAHREN ZUM DREIDIMENSIONALEN VERMESSEN EINES 3D-LUFTBILDES EINER LITHOGRAFIEMASKE
Abrégé :
(EN) In a method for three-dimensionally measuring a 3D aerial image in the region around an image plane during the imaging of a lithography mask (5) arranged in an object plane (4), a selectable imaging scale ratio in mutually perpendicular directions (x, y) is taken into account. For this purpose, an electromagnetic wavefront of imaging light (1) is reconstructed after the interaction thereof with the lithography mask (5). An influencing variable corresponding to the imaging scale ratio is included. Finally, the 3D aerial image measured with the inclusion of the influencing variable is output. This results in a measuring method which can also be used to measure lithography masks which are optimized for use with an anamorphic projection optical unit during projection exposure.
(FR) L'invention concerne un procédé de mesure tridimensionnelle d'une prise de vue aérienne 3D dans la zone entourant un plan d'image lors de la reproduction d'un masque de lithographie (5) qui est agencé dans un plan d'objet (4), selon lequel on prend en compte un rapport d'échelle de reproduction sélectionnable dans des directions perpendiculaires l'une à l'autre (x, y). A cet effet, un front d'onde électromagnétique de la lumière de reproduction (1) est reconstruit selon son interaction avec le masque de lithographie (5). On incorpore une grandeur d'influence qui correspond au rapport d'échelle de reproduction. On produit ensuite la prise de vue 3D mesurée en incorporant la grandeur d'influence. On obtient ainsi un procédé de mesure qui permet de mesurer même des masques de lithographie qui sont optimisés pour être utilisés avec une optique de projection anamorphotique lors de l'exposition par projection.
(DE) Bei einem Verfahren zum dreidimensionalen Vermessen eines 3D- Luftbildes im Bereich um eine Bildebene bei der Abbildung einer Lithografiemaske (5), die in einer Objektebene (4) angeordnet ist, wird ein wählbares Abbildungsmaßstab-Verhältnis in zueinander senkrechten Richtungen (x, y) berücksichtigt. Hierzu wird eine elektromagnetische Wellenfront von Abbildungslicht (1) nach dessen Wechselwirkung mit der Lithografiemaske (5) rekonstruiert. Eine Beeinflussungsgröße, die dem Abbildungsmaßstab-Verhältnis entspricht, wird einbezogen. Schließlich wird das unter Einbeziehung der Beeinflussungsgröße gemessene 3D-Luftbild ausgegeben. Es resultiert ein Vermessungsverfahren, mit dem auch Lithografiemasken vermessen werden können, die zur Verwendung mit einer anomorphotischen Projektionsoptik bei der Projektionsbelichtung optimiert sind.
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)