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1. (WO2016012174) APPAREIL LITHOGRAPHIQUE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication : WO/2016/012174 N° de la demande internationale : PCT/EP2015/064106
Date de publication : 28.01.2016 Date de dépôt international : 23.06.2015
CIB :
G03F 7/20 (2006.01) ,G03F 1/00 (2012.01)
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
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Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
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Exposition; Appareillages à cet effet
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
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Originaux pour la production par voie photomécanique de surfaces texturées, p.ex. masques, photomasques ou réticules; Masques vierges ou pellicules à cet effet; Réceptacles spécialement adaptés à ces originaux; Leur préparation
Déposants :
ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 5500 AH Veldhoven, NL
Inventeurs :
HUANG, Yang-Shan; NL
VAN BERKEL, Koos; NL
VAN DIJSSELDONK, Antonius, Johannes, Josephus; NL
VAN EIJK, Jan; NL
VAN SCHOOT, Jan, Bernard, Plechelmus; NL
VERMEULEN, Johannes, Petrus, Martinus, Bernardus; NL
Mandataire :
VERDONK, Peter; NL
Données relatives à la priorité :
14178288.824.07.2014EP
Titre (EN) LITHOGRAPHIC APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
(FR) APPAREIL LITHOGRAPHIQUE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF
Abrégé :
(EN) A lithographic apparatus is described, the apparatus comprising: n illumination system configured to condition a radiation beam; otary drive adapted to move a flexible patterning device along a closed loop trajectory, the closed loop trajectory having a straight portion and a curved portion, a curvature of the flexible patterning device substantially corresponding to a curvature of the closed loop trajectory; a substrate table constructed to hold a substrate; wherein the rotary drive comprises a pulley assembly configured to: engage, during use, the flexible patterning device, and maintain, during use, a portion of the flexible patterning device that is situated along the straight portion of the trajectory substantially flat, the substantially flat portion of the patterning device being configured to impart the radiation beam with a pattern in its cross-section to form a patterned radiation beam, and; a projection system configured to project the patterned radiation beam onto a target portion of the substrate.
(FR) L'invention concerne un appareil lithographique, l'appareil comprenant : un système d'éclairage configuré pour conditionner un faisceau de rayonnement; un entraînement rotatif adapté pour déplacer un dispositif flexible de formation de motif le long d'une trajectoire en boucle fermée, la trajectoire en boucle fermée ayant une partie droite et une partie incurvée, une courbure du dispositif flexible de formation de motif correspondant sensiblement à une courbure de la trajectoire en boucle fermée; une table de substrat construite pour porter un substrat; l'entraînement rotatif comprend un ensemble poulie configuré pour : engager, pendant l'utilisation, le dispositif flexible de formation de motif, et maintenir, pendant l'utilisation, une partie du dispositif flexible de formation de motif qui est située le long de la partie droite de la trajectoire sensiblement plate, la partie sensiblement plate du dispositif de formation de motif étant configurée pour transmettre le faisceau de rayonnement à un motif dans sa coupe transversale afin de former un faisceau de rayonnement à motif, et; un système de projection configuré pour projeter le faisceau de rayonnement à motif sur une partie cible du substrat.
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)