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1. (WO2016010271) FILTRE DIÉLECTRIQUE MONOBLOC
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication : WO/2016/010271 N° de la demande internationale : PCT/KR2015/006303
Date de publication : 21.01.2016 Date de dépôt international : 22.06.2015
CIB :
H01P 1/20 (2006.01)
Déposants : PARTRON CO.,LTD.[KR/KR]; (Seoku-dong) 22 Samsung 1-ro 2-gil Hwaseong-si Gyeonggi-do 445-170, KR
Inventeurs : KIM, Duck Han; KR
JANG, Dae Hoon; KR
YU, Ji Man; KR
Mandataire : CHOI, Hak Hyun; KR
Données relatives à la priorité :
10-2014-009124118.07.2014KR
Titre (EN) MONO-BLOCK DIELECTRIC FILTER
(FR) FILTRE DIÉLECTRIQUE MONOBLOC
(KO) 모노블록 유전체 필터
Abrégé : front page image
(EN) A mono-block dielectric filter is disclosed. The mono-block dielectric filter of the present invention comprises: a polyhedral-shaped dielectric block forming a body of the mono-block dielectric filter; an external electrode formed on at least one part of sections excluding an upper surface of the dielectric block; at least two resonant holes formed to penetrate a lower surface of the dielectric block from the upper surface thereof; at least one shielding hole penetrating the lower surface of the dielectric block from the upper surface thereof, and formed between the at least two resonant holes; internal electrodes respectively formed on inner walls of the resonant hole and the shielding hole; resonant patterns formed around the resonant hole on the upper surface of the dielectric block, and electrically connected to the internal electrode formed on the inner wall of the resonant hole; shielding patterns formed around the shielding hole on the upper surface of the dielectric block, and electrically connected to the internal electrode formed on the inner wall of the shielding hole; and input/output patterns formed to be spaced from the external electrode, and connected by strip patterns formed on the upper surface of the dielectric block.
(FR) L’invention concerne un filtre diélectrique monobloc. Le filtre diélectrique monobloc de la présente invention comprend : un bloc diélectrique de forme polyédrique formant un corps du filtre diélectrique monobloc ; une électrode externe formée sur au moins une partie des sections, à l’exclusion d’une surface supérieure du bloc diélectrique ; au moins deux trous résonants formés pour pénétrer dans une surface inférieure du bloc diélectrique depuis sa surface supérieure ; au moins un trou de blindage pénétrant dans la surface inférieure du bloc diélectrique depuis sa surface supérieure, et formé entre lesdits au moins deux trous résonants ; des électrodes internes formées respectivement sur les parois intérieures du trou résonant et du trou de blindage ; des motifs résonants formés autour du trou résonant sur la surface supérieure du bloc diélectrique, et reliés électriquement à l’électrode interne formée sur la paroi intérieure du trou résonant ; des motifs de blindage formés autour du trou de blindage sur la surface supérieure du bloc diélectrique, et reliés électriquement à l’électrode interne formée sur la paroi intérieure du trou de blindage ; et des motifs d’entrée/sortie formés pour être espacés de l’électrode externe, et reliés par des motifs de bande formés sur la surface supérieure du bloc diélectrique.
(KO) 모노블록 유전체 필터가 개시된다. 본 발명의 모노블록 유전체 필터는 모노블록 유전체 필터의 몸체를 이루는 다면체 형상의 유전체 블록, 상기 유전체 블록의 상면을 제외한 부분 중 적어도 일부에 형성되는 외부 전극, 상기 유전체 블록의 상면에서 하면을 관통하고, 둘 이상이 형성되는 공진홀, 상기 유전체 블록의 상면에서 하면을 관통하고, 상기 둘 이상의 공진홀 사이에 형성되는 적어도 하나의 차폐홀, 상기 공진홀 및 상기 차폐홀의 내벽에 각각 형성된 내부 전극, 상기 유전체 블록의 상면 중 상기 공진홀 주변에 형성되고, 상기 공진홀 내벽에 형성된 내부 전극과 전기적으로 연결되는 공진 패턴, 상기 유전체 블록의 상면 중 상기 차폐홀 주변에 형성되고, 상기 차폐홀 내벽에 형성된 내부 전극과 전기적으로 연결되는 차폐 패턴 및 상기 외부 전극과 이격되어 형성되고 상기 유전체 블록의 상면에 형성된 스트립 패턴에 의해 연결되는 입출력 패턴을 포함한다.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : coréen (KO)
Langue de dépôt : coréen (KO)