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1. (WO2016010077) COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE DE TYPE NÉGATIF, FILM DURCI EN RÉSINE, ÉLÉMENT DE SÉPARATION ET ÉLÉMENT OPTIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/010077    N° de la demande internationale :    PCT/JP2015/070289
Date de publication : 21.01.2016 Date de dépôt international : 15.07.2015
CIB :
G03F 7/038 (2006.01), G03F 7/004 (2006.01), G03F 7/027 (2006.01), H01L 21/336 (2006.01), H01L 29/786 (2006.01), H01L 31/18 (2006.01), H01L 51/50 (2006.01), H05B 33/10 (2006.01), H05B 33/22 (2006.01)
Déposants : ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED [JP/JP]; 5-1, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008405 (JP)
Inventeurs : TAKAHASHI Hideyuki; (JP).
YAMADA Kotaro; (JP)
Mandataire : SAKURA PATENT OFFICE, P.C.; PMO Kanda Tsukasa-machi, 8-1, Kanda Tsukasa-machi 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010048 (JP)
Données relatives à la priorité :
2014-148345 18.07.2014 JP
Titre (EN) NEGATIVE-TYPE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND RESIN CURED FILM, PARTITION AND OPTICAL ELEMENT
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE DE TYPE NÉGATIF, FILM DURCI EN RÉSINE, ÉLÉMENT DE SÉPARATION ET ÉLÉMENT OPTIQUE
(JA) ネガ型感光性樹脂組成物、樹脂硬化膜、隔壁および光学素子
Abrégé : front page image
(EN)Provided are: a negative-type photosensitive resin composition for use in the manufacture of an optical element or the like (organic EL element, quantum dot display, TFT array, thin film solar cell) having an upper surface of a partition with good ink repellency and enabling the reduction of residues at an opening; a resin cured film for an optical element having good ink repellency on an upper surface; a partition for an optical element enabling the formation of a fine and highly accurate pattern; and the aforementioned optical element having the partition. The negative type photosensitive resin composition is characterized by comprising a photocurable alkali-soluble resin or alkali-soluble monomer, a photopolymerization initiator, an acid generating agent, an acid curing agent, and an ink repelling agent. The cured film and a partition are formed using the negative type photosensitive resin composition, and the aforementioned optical element has a plurality of dots on a substrate surface and the partition positioned between adjacent dots.
(FR)La présente invention concerne une composition de résine photosensible de type négatif destinée à être utilisée dans la fabrication d'un élément optique ou similaire (élément EL organique, affichage à points quantiques, réseau de TFT, cellule photovoltaïque en couche mince) dont une surface supérieure d'un élément de séparation présente de bonnes propriétés de répulsion d'encre et permettant la réduction de résidus au niveau d'une ouverture ; un film de résine durci destiné à un élément optique et présentant de bonnes propriétés de répulsion d'encre sur une surface supérieure ; un élément de séparation pour un élément optique permettant la formation d'un motif fin et hautement précis ; et l'élément optique susmentionné comportant ledit élément de séparation. La composition de résine photosensible de type négatif est caractérisée en ce qu'elle comprend une résine ou un monomère soluble dans les alcalis photodurcissable, un initiateur de photopolymérisation, un agent générateur d'acide, un agent de durcissement acide, et un agent repoussant l'encre. Un film durci et un élément de séparation sont formés à l'aide de la composition de résine photosensible de type négatif, et l'élément optique susmentionné possède une pluralité de points sur une surface de substrat et l'élément de séparation est positionné entre des points adjacents.
(JA) 隔壁上面が良好な撥インク性を有するとともに開口部における残渣の低減が可能な光学素子(有機EL素子、量子ドットディスプレイ、TFTアレイ、薄膜太陽電池)等の製造に用いるネガ型感光性樹脂組成物、上面に良好な撥インク性を有する光学素子用の樹脂硬化膜、微細で精度の高いパターンの形成が可能な光学素子用の隔壁および、該隔壁を有する上記光学素子の提供。光硬化性を有するアルカリ可溶性樹脂またはアルカリ可溶性単量体と、光重合開始剤と、酸発生剤と、酸硬化剤と、撥インク剤とを含有することを特徴とするネガ型感光性樹脂組成物、該ネガ型感光性樹脂組成物を用いて形成される硬化膜および隔壁、および基板表面に複数のドットと隣接するドット間に位置する該隔壁とを有する上記光学素子。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)