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1. (WO2016009978) DISPOSITIF D'EXPOSITION À UN RAYONNEMENT LASER

Pub. No.:    WO/2016/009978    International Application No.:    PCT/JP2015/069986
Publication Date: Fri Jan 22 00:59:59 CET 2016 International Filing Date: Tue Jul 14 01:59:59 CEST 2015
IPC: B23K 26/08
B23K 26/00
B23K 26/16
Applicants: TOYOKOH CO.,LTD.
株式会社トヨコー
Inventors: TOYOSAWA, Kazuaki
豊澤 一晃
KUROYANAGI, Akihiro
黒柳 昭博
FUJITA, Kazuhisa
藤田 和久
OKIHARA, Shinichiro
沖原 伸一朗
Title: DISPOSITIF D'EXPOSITION À UN RAYONNEMENT LASER
Abstract:
La présente invention concerne un dispositif d'exposition à un rayonnement laser capable d'entraîner un système optique de déviation (33) à grande vitesse et de supporter la chaleur générée par le système optique grâce à une structure compacte et légère. Le dispositif d'exposition à un rayonnement laser (30) comprend : un système optique de focalisation (32) destiné à focaliser un faisceau laser (B) généré par un oscillateur laser (10) sur un foyer prédéfini (FP); un système optique de déviation (33) destiné à dévier, selon un angle de déviation prédéfini, le faisceau laser (B) quittant le système optique de focalisation (32); et un moyen d'entraînement (100) destiné à entraîner le système optique de déviation (33) afin de le faire tourner autour d'un axe de rotation qui est agencé de manière sensiblement parallèle à l'axe optique du système optique de focalisation (32). Le moyen d'entraînement (100) possède un moteur pneumatique (100) transformant l'énergie d'un gaz fourni par une source d'alimentation en gaz (60) en une force de rotation.