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1. (WO2016008711) OPTIMISATION DES ÉLÉMENTS D'ASSISTANCE ET D'UNE SOURCE D'ASSISTANCE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/008711    N° de la demande internationale :    PCT/EP2015/064742
Date de publication : 21.01.2016 Date de dépôt international : 29.06.2015
CIB :
G03F 7/20 (2006.01), G03F 1/36 (2012.01), G03F 1/70 (2012.01)
Déposants : ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 NL-5500 AH Veldhoven (NL)
Inventeurs : HSU, Duan-Fu, Stephen; (US).
LIU, Feng-Liang; (CN)
Mandataire : PETERS, John; (NL)
Données relatives à la priorité :
62/024,324 14.07.2014 US
62/115,506 12.02.2015 US
Titre (EN) OPTIMIZATION OF ASSIST FEATURES AND SOURCE
(FR) OPTIMISATION DES ÉLÉMENTS D'ASSISTANCE ET D'UNE SOURCE D'ASSISTANCE
Abrégé : front page image
(EN)Disclosed herein are several methods of reducing one or more pattern displacement errors, contrast loss, best focus shift, tilt of a Bossung curve of a portion of a design layout used in a lithographic process for imaging that portion onto a substrate using a lithographic apparatus. The methods include adjusting an illumination source of the lithographic apparatus, placing assist features onto or adjusting positions and/or shapes existing assist features in the portion. Adjusting the illumination source and/or the assist features may be by an optimization algorithm.
(FR)L'invention concerne plusieurs procédés permettant de réduire une ou plusieurs erreurs de déplacement de motif, une perte de contraste, un meilleur décalage de foyer, l'inclinaison d'une courbe de Bossung d'une partie d'un tracé de conception utilisé dans un procédé lithographique d'imagerie de cette partie sur un substrat à l'aide d'un appareil lithographique. Les procédés consistent à régler une source d'éclairage de l'appareil lithographique, à placer des éléments d'assistance ou à régler des positions et/ou des formes d'éléments d'assistance existants dans la partie. Le réglage de la source d'éclairage et/ou des éléments d'assistance peut être réalisé par un algorithme d'optimisation.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)