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1. (WO2016007366) COMPOSITION COSMÉTIQUE FORMANT DES MICROSTRUCTURES ANISOTROPES POUR ATTÉNUER L'ASPECT DES RIDULES ET RIDES SUR LA PEAU
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/007366    N° de la demande internationale :    PCT/US2015/038957
Date de publication : 14.01.2016 Date de dépôt international : 02.07.2015
CIB :
A61K 8/84 (2006.01), A61K 8/85 (2006.01), A61K 8/87 (2006.01), A61K 8/02 (2006.01), A61Q 19/08 (2006.01), A61Q 19/00 (2006.01)
Déposants : ELC MANAGEMENT LLC [US/US]; 155 Pinelawn Road Suite 345 South Melville, New York 11747 (US)
Inventeurs : POLONKA, Jack; (US).
CUMMINS, Phillip; (US)
Mandataire : MCKELVEY, Idris; (US)
Données relatives à la priorité :
62/021,391 07.07.2014 US
Titre (EN) COSMETIC COMPOSITION FORMING ANISOTROPIC MICROSTRUCTURES FOR REDUCTION OF THE APPEARANCE OF FINE LINES AND WRINKLES ON THE SKIN
(FR) COMPOSITION COSMÉTIQUE FORMANT DES MICROSTRUCTURES ANISOTROPES POUR ATTÉNUER L'ASPECT DES RIDULES ET RIDES SUR LA PEAU
Abrégé : front page image
(EN)The present invention provides a cosmetic composition for reducing the appearance of fine lines and wrinkles in skin, comprising a tensor agent and a dermatologically acceptable medium, the tensor agent being present from about 20% to about 80% of the composition, and wherein the tensor agent forms an anisotropic microstructure upon drying on the skin.
(FR)L'invention concerne une composition cosmétique pouvant atténuer l'aspect des ridules et rides sur la peau. Cette composition comprend un agent tenseur et un support dermatologiquement acceptable, l'agent tenseur étant présent en proportion d'environ 20% à environ 80% de la composition. L'agent tenseur forme une microstructure anisotrope en séchant sur la peau.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)