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1. (WO2016006741) DISPOSITIF DE DÉPÔT DE COUCHE MINCE COMPORTANT UNE PLURALITÉ DE SOURCES D'ÉVAPORATION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/006741    N° de la demande internationale :    PCT/KR2014/006229
Date de publication : 14.01.2016 Date de dépôt international : 10.07.2014
CIB :
H01L 51/56 (2006.01), H01L 21/203 (2006.01), C23C 14/24 (2006.01)
Déposants : SUNIC SYSTEM LTD. [KR/KR]; 293, Saneop-ro 155beon-gil, Gwonseon-gu Suwon-si Gyeonggi-do 441-811 (KR)
Inventeurs : KIM, Myoung Soo; (KR).
KIM, Jeong Taek; (KR).
KIM, Jong Jin; (KR).
LEE, Young Jong; (KR)
Mandataire : LEE, Joon Sung; (KR)
Données relatives à la priorité :
10-2014-0084801 07.07.2014 KR
Titre (EN) THIN FILM DEPOSITION DEVICE HAVING PLURALITY OF EVAPORATION SOURCES
(FR) DISPOSITIF DE DÉPÔT DE COUCHE MINCE COMPORTANT UNE PLURALITÉ DE SOURCES D'ÉVAPORATION
(KO) 복수의 증발원을 갖는 박막 증착장치
Abrégé : front page image
(EN)The present invention relates to a thin film deposition device comprising: a deposition chamber in which a substrate is supported; a plurality of crucibles for accommodating deposition materials therein for deposition on the substrate; a plurality of distribution pipes respectively coupled with the crucibles so as to be arranged in a line such that the vaporized deposition materials are sprayed through a plurality of nozzles; a partition provided between the distribution pipes for the uniformity of a thin film to be deposited on the substrate, so as to delimit a spraying range of the vaporized deposition materials; a distribution pipe heater independently provided so as to be positioned to face the outer side of the distribution pipes in order to heat the distribution pipes; a crucible heater for vaporizing the deposition materials by heating the crucibles; and an upper plate having an outlet corresponding to the nozzles so as to be provided on the upper part of the distribution pipes. Therefore, a chamber height can be reduced by reducing the height of a crucible, and left/right deposition of a substrate is independently performed so as to enable symmetric or asymmetric deposition.
(FR)La présente invention concerne un dispositif de dépôt de couche mince comprenant : une chambre de dépôt dans laquelle un substrat est supporté ; une pluralité de creusets destinés à contenir en leur sein des matériaux de dépôt en vue d'un dépôt sur le substrat ; une pluralité de tuyaux de distribution respectivement accouplés aux creusets de façon à être disposés en ligne afin que les matériaux de dépôt vaporisés soient pulvérisés au moyen d'une pluralité de buses ; une cloison disposée entre les tuyaux de distribution pour assurer l'uniformité d'une couche mince devant être déposée sur le substrat, de manière à délimiter une plage de pulvérisation des matériaux de dépôt vaporisés ; un dispositif de chauffage de tuyau de distribution disposé indépendamment de façon à être positionné face au côté extérieur des tubes de distribution afin de chauffer les tuyaux de distribution ; un dispositif de chauffage de creuset pour vaporiser les matériaux de dépôt par chauffage des creusets ; et une plaque supérieure comportant un orifice de sortie correspondant aux buses de façon à être disposée sur la partie supérieure des tubes de distribution. Par conséquent, une hauteur de chambre peut être réduite par réduction de la hauteur d'un creuset, et un dépôt à gauche/à droite d'un substrat est effectué indépendamment de manière à permettre un dépôt symétrique ou asymétrique.
(KO)본 발명은 박막 증착장치에 관한 것으로, 내부에 기판이 지지되는 증착챔버와, 상기 기판에 증착시키기 위한 증착재료가 수용되는 복수의 도가니와, 상기 도가니와 각각 결합되어 기화된 증착재료를 다수의 노즐을 통해 분사하도록 일렬로 배치되는 복수의 분배관과, 상기 기판에 증착되는 박막의 균일도를 위해 상기 분배관 사이에 설치되어 기화된 증착재료의 분사범위를 한정하는 격벽과, 상기 분배관을 가열하기 위해 상기 분배관의 외면과 마주보며 위치하도록 독립적으로 설치되는 분배관 히터와, 상기 도가니를 가열하여 상기 증착재료를 기화시키기 위한 도가니 히터와, 상기 노즐에 대응되는 배출구가 형성되어 상기 분배관의 상부에 설치되는 상부 플레이트를 포함함으로써, 도가니의 높이를 줄여 챔버 높이를 줄일 수 있고, 기판의 좌/우 증착을 독립적으로 하여 대칭 또는 비대칭 증착이 가능하도록 할 수 있다.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : coréen (KO)
Langue de dépôt : coréen (KO)