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1. (WO2016006592) MOULE POUR ESTAMPAGE IMAGE PAR IMAGE ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/006592    N° de la demande internationale :    PCT/JP2015/069485
Date de publication : 14.01.2016 Date de dépôt international : 07.07.2015
CIB :
H01L 21/027 (2006.01), B29C 33/38 (2006.01), B29C 59/02 (2006.01)
Déposants : SOKEN CHEMICAL & ENGINEERING CO., LTD. [JP/JP]; 29-5, Takada 3-chome, Toshima-ku, Tokyo 1718531 (JP)
Inventeurs : MIYAZAWA, Yukihiro; (JP)
Mandataire : SK INTELLECTUAL PROPERTY LAW FIRM; Ooashi-Building 2nd Floor, 12-5, Uguisudani-cho, Shibuya-ku, Tokyo 1500032 (JP)
Données relatives à la priorité :
2014-140932 08.07.2014 JP
Titre (EN) MOLD FOR STEP-AND-REPEAT IMPRINTING, AND METHOD FOR PRODUCING SAME
(FR) MOULE POUR ESTAMPAGE IMAGE PAR IMAGE ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
(JA) ステップアンドリピート用インプリント用モールド及びその製造方法
Abrégé : front page image
(EN)Provided is a mold for step-and-repeat imprinting that is, when removing the mold, capable of suppressing deformation of the edges of a relief pattern formed on a cured resin layer. The present invention provides a mold 2 for step-and-repeat imprinting, comprising: a transparent substrate 4; a transparent resin layer 6 that is formed on the transparent substrate and includes a pattern region 13 having a relief pattern 3 formed thereon; and a light shielding member 5 provided between the transparent substrate and the transparent resin layer so as to overlap with the pattern region at part of the pattern region.
(FR)Cette invention concerne un moule pour estampage image par image, apte à supprimer la déformation des bords d'un motif en relief formé sur une couche de résine durcie lors de l'extraction du moule. Plus précisément, l'invention concerne un moule (2) pour estampage étape par étape, comprenant : un substrat transparent (4) ; une couche de résine transparente (6) qui est formée sur le substrat transparent et comprend une région de motif (13), présentant un motif en relief (3) formé sur celle-ci ; et un élément de protection contre la lumière (5) disposé entre le substrat transparent et la couche de résine transparente de manière à chevaucher la région de motif au niveau d'une partie de la région de motif.
(JA) モールドを取り外す際に硬化樹脂層に形成した凹凸パターンの端部の変形を抑制することができる、ステップアンドリピート用インプリント用モールドを提供する。 本発明によれば、透明基材4と、その上に形成され且つ凹凸パターン3が形成されたパターン領域13を有する透明樹脂層6と、前記透明基材と前記透明樹脂層との間において前記パターン領域の一部において前記パターン領域に重なるように設けられた遮光部材5とを備える、ステップアンドリピート用インプリント用モールド2が提供される。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)