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PATENTSCOPE

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1. (WO2016006586) CORPS À MOTIF RÉFLÉCHISSANT LES INFRAROUGES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication : WO/2016/006586 N° de la demande internationale : PCT/JP2015/069469
Date de publication : 14.01.2016 Date de dépôt international : 07.07.2015
CIB :
G02B 5/26 (2006.01) ,G02B 5/22 (2006.01)
Déposants : FUJIFILM CORPORATION[JP/JP]; 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620, JP
Inventeurs : KIYOTO Naoharu; JP
MATSUNO Ryou; JP
Mandataire : SIKS & CO.; 8th Floor, Kyobashi-Nisshoku Bldg., 8-7, Kyobashi 1-chome, Chuo-ku, Tokyo 1040031, JP
Données relatives à la priorité :
2014-14372011.07.2014JP
Titre (EN) INFRARED-REFLECTING PATTERNED BODY
(FR) CORPS À MOTIF RÉFLÉCHISSANT LES INFRAROUGES
(JA) 赤外線反射パターン形成体
Abrégé : front page image
(EN) An infrared-reflecting patterned body including an infrared ray-reflecting material and having a pattern section that reflects infrared rays, in at least part of an area on a supporting body, and including an infrared ray-absorbing material and having an un-patterned section that absorbs infrared rays, in at least part of an area in an area, on the support body, in which the pattern section is not formed. The pattern section that reflects the infrared rays contains hexagonal or circular flat plate-shaped metal particles as an infrared ray-reflecting material. Flat plate-shaped metal particles having a plane orientation for the main flat plane of said flat plate-shaped metal particles, relative to one surface of the support body, of 0°-±30° constitute at least 50% of the total number of flat plate-shaped metal particles in the pattern section that reflects the infrared rays. The ratio between the reflection rate for the pattern section that reflects infrared rays and the reflection rate for the un-patterned section that absorbs infrared rays is large, in the wavelength having the highest reflection rate in a 780 nm-25 µs infrared region in the pattern section that reflects infrared rays.
(FR) L'invention concerne un corps à motif réfléchissant les infrarouges comprenant un matériau réfléchissant les rayons infrarouges et ayant une section de motif qui réfléchit les rayons infrarouges, dans au moins une partie d'une zone sur un corps de support, et comprenant un matériau absorbant les rayons infrarouges et ayant une section sans motif qui absorbe les rayons infrarouges, dans au moins une partie d'une zone dans une zone, sur le corps de support, dans laquelle la section de motif n'est pas formée. La section de motif qui réfléchit les rayons infrarouges contient des particules métalliques en forme de plaque plate hexagonale ou circulaire en tant que matériau réfléchissant les rayons infrarouges. Des particules métalliques en forme de plaque plate ayant une orientation plane pour le plan plat principal desdites particules métalliques en forme de plaque plate, par rapport à une surface du corps de support, de 0°-±30° constituent au moins 50 % du nombre total de particules métalliques en forme de plaque plate dans la section de motif qui réfléchit les rayons infrarouges. Le rapport entre le taux de réflexion pour la section de motif qui réfléchit les rayons infrarouges et le taux de réflexion pour la section sans motif qui absorbe les rayons infrarouge est grand, dans la longueur d'onde ayant le taux de réflexion le plus élevé dans une région infrarouge de 780 nm à 25 µs dans la section de motif qui réfléchit les rayons infrarouges.
(JA) 支持体上の少なくとも一部の領域に、赤外線反射材料を含み、かつ、赤外線を反射するパターン部を有し、前述の支持体上の前述のパターン部が形成されていない領域のうち少なくとも一部の領域に、赤外線吸収材料を含み、かつ、赤外線を吸収する非パターン部を有し、前述の赤外線を反射するパターン部が前述の赤外線反射材料として六角形状乃至円形状の平板状金属粒子を含有し、前述の赤外線を反射するパターン部中、前述の平板状金属粒子の主平面が前述の支持体の一方の表面に対して0°~±30°の範囲で面配向している平板状金属粒子が、全平板状金属粒子に対して50個数%以上である赤外線反射パターン形成体は、赤外線を反射するパターン部において780nm以上25μm以下の赤外領域における最も高い反射率の波長において、赤外線を反射するパターン部の反射率の、赤外線を吸収する非パターン部の反射率に対する比が大きい。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)