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1. (WO2016006539) DISPOSITIF À FAISCEAU À PARTICULES CHARGÉES ET CORRECTEUR D'ABERRATION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/006539    N° de la demande internationale :    PCT/JP2015/069220
Date de publication : 14.01.2016 Date de dépôt international : 03.07.2015
CIB :
H01J 37/153 (2006.01)
Déposants : HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION [JP/JP]; 24-14, Nishi Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058717 (JP)
Inventeurs : YOSHIDA Takaho; (JP)
Mandataire : INOUE Manabu; (JP)
Données relatives à la priorité :
2014-139297 07.07.2014 JP
Titre (EN) CHARGED PARTICLE BEAM DEVICE AND ABERRATION CORRECTOR
(FR) DISPOSITIF À FAISCEAU À PARTICULES CHARGÉES ET CORRECTEUR D'ABERRATION
(JA) 荷電粒子線装置および収差補正器
Abrégé : front page image
(EN)High expectations are placed on aberration correctors to increase the resolving power of charged particle devices. Meanwhile, a far more complicated configuration and higher mechanical precision assembly in comparison to prior art aberration correctors are necessary in charged particle beam optical devices that use low-energy electron beams. A complex electromagnetic quadrupole part employed in the aberration corrector preferably has the forward extremities of the poles provided in a vacuum near an electron beam path and excitation coils disposed outside the vacuum, and this necessitates a structure that can achieve both electrical insulation and vacuum sealing for each of these poles. Such structural complexity generally conflicts with improving mechanical assembly precision. The complicated structure in the above problems can be simplified by: separating the electrodes and the magnetic poles in the complex electromagnetic multipole that had been used in prior art aberration correctors; and offsetting the positions of both, or ensuring that the widths of both do not match. Consequently, improvement of mechanical assembly precision can be achieved.
(FR)On attend beaucoup des correcteurs d'aberration pour augmenter le pouvoir de résolution des dispositifs à faisceau de particules chargées. Par ailleurs, une configuration beaucoup plus compliquée et un assemblage à plus grande précision mécanique par comparaison aux correcteurs d'aberration de l'état de la technique sont nécessaires dans des dispositifs optiques à faisceau de particules chargées qui utilisent des faisceaux d'électrons à basse énergie. De préférence, les extrémités avant des pôles d'une partie quadrupôle électromagnétique complexe utilisée dans le correcteur d'aberration sont placées dans le vide à proximité d'une trajectoire de faisceau d'électrons, et ses bobines d'excitation sont disposées à l'extérieur du vide, et cela nécessite une structure qui peut assurer aussi bien l'isolation électrique et que l'étanchéité au vide pour chacun de ces pôles. Cette complexité structurelle est généralement en conflit avec l'amélioration de la précision d'assemblage mécanique. La structure compliquée dans les problèmes susmentionnés peut être simplifiée par : séparation des électrodes et des pôles magnétiques dans le multipôle électromagnétique complexe qui était utilisé dans des correcteurs d'aberration de l'état de la technique ; et décalage des positions des deux, ou assurance du fait que les largeurs des deux ne correspondent pas. Par conséquent, une amélioration de la précision d'assemblage mécanique peut être obtenue.
(JA) 荷電粒子装置において分解能を向上させるために,収差補正器が大きく期待されている。 一方,低エネルギー電子線を用いる荷電粒子線光学装置では,従来の収差補正器に比べて格段に複雑な構成と,より高い機械精度での組み立てが必要となる。収差補正器で利用される電磁複合四極子部は,極子先端は真空内電子線行路近傍に設置し,励磁コイルは真空外に配置することが望ましく,これら極子毎に電気的絶縁と真空密閉を両立する構造が必要である。このような構造の複雑化は,機械的組立精度の向上とは一般的に相反する。 従来の収差補正器で用いられていた電磁複合多極子おける電極と磁極とを分離し,かつ両者の位置をずらす,或いは両者の幅を一致させないことで,上記課題の複雑な構造を,簡略化できる。従って,機械的組み立て精度の向上を実現できる。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)