WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2016006199) DISPOSITIF D'ATOMISATION ÉLECTROSTATIQUE ET PROCÉDÉ D'ATOMISATION ÉLECTROSTATIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/006199    N° de la demande internationale :    PCT/JP2015/003275
Date de publication : 14.01.2016 Date de dépôt international : 30.06.2015
CIB :
B05B 5/057 (2006.01), B05B 5/053 (2006.01)
Déposants : PANASONIC INTELLECTUAL PROPERTY MANAGEMENT CO., LTD. [JP/JP]; 1-61, Shiromi 2-chome, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 5406207 (JP)
Inventeurs : TOMODA, Ayaka; .
MISHIMA, Yukiko; .
KOMURA, Yasuhiro; .
SUDA, Hiroshi;
Mandataire : KAMATA, Kenji; (JP)
Données relatives à la priorité :
2014-142972 11.07.2014 JP
Titre (EN) ELECTROSTATIC ATOMIZING DEVICE AND ELECTROSTATIC ATOMIZING METHOD
(FR) DISPOSITIF D'ATOMISATION ÉLECTROSTATIQUE ET PROCÉDÉ D'ATOMISATION ÉLECTROSTATIQUE
(JA) 静電霧化装置および静電霧化方法
Abrégé : front page image
(EN)An electrostatic atomizing device is provided with: a discharge unit (2) formed so as to be able to hold a liquid; an application unit (3) for applying voltage to the discharge unit (2); and a control unit (4) for setting the voltage applied by the application unit (3) to a prescribed voltage for generating a prescribed amount of charged particulate water. The control unit (4) is configured to carry out control so as to set the voltage applied by the application unit (3) to a prescribed voltage lower than the prescribed voltage when the device is started and then switch to the prescribed voltage. With the present device, it is possible to provide an electrostatic atomizing device wherein the time required to the start of the electrostatic atomization phenomenon can be reduced.
(FR)La présente invention concerne un dispositif d'atomisation électrostatique doté : d'une unité de décharge (2) formée de façon à pouvoir contenir un liquide; une unité d'application (3) permettant d'appliquer une tension à l'unité de décharge (2); et une unité de commande (4) permettant de régler la tension appliquée par l'unité d'application (3) à une tension prescrite afin de produire une quantité prescrite d'eau à particules chargées. L'unité de commande (4) est conçue pour réaliser une commande de manière à régler la tension appliquée par l'unité d'application (3) à une tension prescrite inférieure à la tension prescrite lorsque le dispositif est démarré et ensuite commuté à la tension prescrite. Avec le présent dispositif, il est possible de fournir un dispositif d'atomisation électrostatique, le temps nécessaire pour le démarrage du phénomène de projection électrostatique pouvant être réduit.
(JA) 静電霧化装置は、液体を保持可能に形成された放電部(2)と、放電部(2)に電圧を印加する印加部(3)と、印加部(3)による印加電圧を、帯電微粒子水が所定量以上生成される所定電圧に設定する制御部(4)と、を備える。制御部(4)は、始動時に、印加部(3)による印加電圧を、所定電圧より低い所定電圧に設定した後、所定電圧に切り替えるよう制御するように構成される。本装置によれば、静電霧化現象の開始までに要する時間を短縮することができる静電霧化装置を提供できる。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)