WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Options
Langue d'interrogation
Stemming/Racinisation
Trier par:
Nombre de réponses par page
Certains contenus de cette application ne sont pas disponibles pour le moment.
Si cette situation persiste, veuillez nous contacter àObservations et contact
1. (WO2016005965) SYSTÈMES ET PROCÉDÉS AMÉLIORÉS POUR L'ÉCRITURE DIRECTE INFORMATISÉE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication : WO/2016/005965 N° de la demande internationale : PCT/IL2015/000032
Date de publication : 14.01.2016 Date de dépôt international : 23.06.2015
CIB :
G01N 21/956 (2006.01) ,B41J 2/435 (2006.01) ,B41J 2/47 (2006.01)
G PHYSIQUE
01
MÉTROLOGIE; ESSAIS
N
RECHERCHE OU ANALYSE DES MATÉRIAUX PAR DÉTERMINATION DE LEURS PROPRIÉTÉS CHIMIQUES OU PHYSIQUES
21
Recherche ou analyse des matériaux par l'utilisation de moyens optiques, c. à d. en utilisant des rayons infrarouges, visibles ou ultraviolets
84
Systèmes spécialement adaptés à des applications particulières
88
Recherche de la présence de criques, de défauts ou de souillures
95
caractérisée par le matériau ou la forme de l'objet à analyser
956
Inspection de motifs sur la surface d'objets
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
41
IMPRIMERIE; LIGNARDS; MACHINES À ÉCRIRE; TIMBRES
J
MACHINES À ÉCRIRE; MÉCANISMES D'IMPRESSION SÉLECTIVE, c. à d. MÉCANISMES IMPRIMANT AUTREMENT QUE PAR UTILISATION DE FORMES D'IMPRESSION; CORRECTION D'ERREURS TYPOGRAPHIQUES
2
Machines à écrire ou mécanismes d'impression sélective caractérisés par le procédé d'impression ou de marquage pour lequel ils sont conçus
435
caractérisés par l'irradiation sélective d'un matériau d'impression ou de transfert d'impression
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
41
IMPRIMERIE; LIGNARDS; MACHINES À ÉCRIRE; TIMBRES
J
MACHINES À ÉCRIRE; MÉCANISMES D'IMPRESSION SÉLECTIVE, c. à d. MÉCANISMES IMPRIMANT AUTREMENT QUE PAR UTILISATION DE FORMES D'IMPRESSION; CORRECTION D'ERREURS TYPOGRAPHIQUES
2
Machines à écrire ou mécanismes d'impression sélective caractérisés par le procédé d'impression ou de marquage pour lequel ils sont conçus
435
caractérisés par l'irradiation sélective d'un matériau d'impression ou de transfert d'impression
47
utilisant la combinaison du balayage et de la modulation de lumière
Déposants : ORBOTECH LTD.[IL/IL]; P.O. Box 215 8110101 Yavne, IL
Inventeurs : GOLD, Uri; IL
ORON, Ram; IL
Données relatives à la priorité :
62/021, 71608.07.2014US
Titre (EN) IMPROVED SYSTEMS AND METHODS FOR COMPUTERIZED DIRECT WRITING
(FR) SYSTÈMES ET PROCÉDÉS AMÉLIORÉS POUR L'ÉCRITURE DIRECTE INFORMATISÉE
Abrégé :
(EN) A method for computerized direct optical writing on a patterned substrate including the steps of providing a printing instruction database containing precise instructions for printing on the patterned substrate, imaging the patterned substrate to provide a patterned substrate image, and employing a computer referencing at least the printing instruction database and the patterned substrate image for instructing an optical writer to write on the patterned substrate in accordance with the precise instructions without carrying out fiducial registration between the printing instruction database and the patterned substrate during the time between the imaging and the instructing.
(FR) L'invention concerne un procédé pour l'écriture optique directe informatisée sur un substrat à motifs, comprenant les étapes de fourniture d'une base de données d'instructions d'impression contenant des instructions précises pour l'impression sur le substrat à motifs, d'imagerie du substrat à motifs pour fournir une image de substrat à motifs, et de recours à un référencement par ordinateur d'au moins la base de données d'instructions d'impression et de l'image de substrat à motifs pour donner pour instruction à un lecteur optique d'écrire sur le substrat à motifs conformément aux instructions précises sans effectuer d'alignement de repère entre la base de données d'instructions d'impression et le substrat à motifs pendant le laps de temps entre l'imagerie et l'envoi d'instruction.
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)