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1. (WO2016005476) DISPOSITIF DE PULVÉRISATION À CIBLE MOBILE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/005476    N° de la demande internationale :    PCT/EP2015/065645
Date de publication : 14.01.2016 Date de dépôt international : 08.07.2015
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    09.05.2016    
CIB :
C23C 14/34 (2006.01), C23C 14/56 (2006.01), H01J 37/34 (2006.01)
Déposants : SOLERAS ADVANCED COATINGS BVBA [BE/BE]; E3-laan 75-79 9800 Deinze (BE)
Inventeurs : DE BOSSCHER, Wilmert; (BE).
VAN DE PUTTE, Ivan; (BE)
Mandataire : HERTOGHE, Kris; (BE)
Données relatives à la priorité :
14176303.7 09.07.2014 EP
15166011.5 30.04.2015 EP
Titre (EN) SPUTTER DEVICE WITH MOVING TARGET
(FR) DISPOSITIF DE PULVÉRISATION À CIBLE MOBILE
Abrégé : front page image
(EN)A sputter device (100) for depositing a layer on a substrate in a vacuum chamber, the layer having a layer property in each point of the substrate surface. The sputter device comprises at least one end block (120) adapted for each holding a cylindrical target (160) having a longitudinal axis in a first direction. The sputter device moreover comprises a first drive means (190) for providing a rotational movement of the at least one cylindrical target (160) around its longitudinal axis. The sputter device also comprises a second drive means (145) for applying a translational movement to the at least one end block (120) in a second direction, thereby keeping the target axis parallel during at least a significant portion of the movement trajectory along the second direction. The first and the second drive means are adapted for, during sputtering, being simultaneously operational in the vacuum chamber. The movement of the first drive means does not impact the uniformity of the layer sputtered on the substrate in the direction on the surface of the substrate corresponding to a perpendicular projection of the second direction onto the substrate (170).
(FR)L'invention concerne un dispositif de pulvérisation (100) permettant de déposer une couche sur un substrat dans une chambre à vide, la couche présentant une propriété de couche dans chaque point de la surface de substrat. Le dispositif de pulvérisation comprend un ou plusieurs blocs d'extrémité (120) adaptés à maintenir chacun une cible cylindrique (160) présentant un axe longitudinal dans une première direction. Le dispositif de pulvérisation comprend en outre un premier moyen d'entraînement (190) permettant de fournir un mouvement de rotation de la/des cible(s) cylindrique(s) (160) autour de son axe longitudinal. Le dispositif de pulvérisation comprend également un second moyen d'entraînement (145) permettant d'appliquer un mouvement de translation au(x) bloc(s) d'extrémité (120) dans une seconde direction, ce qui permet de maintenir l'axe de cible parallèle sur au moins une partie significative de la trajectoire de mouvement le long de la seconde direction. Les premier et second moyens d'entraînement sont adaptés à, pendant la pulvérisation, être simultanément opérationnels dans la chambre à vide. Le mouvement du premier moyen d'entraînement n'a pas d'impact sur l'uniformité de la couche pulvérisée sur le substrat dans la direction sur la surface du substrat correspondant à une saillie perpendiculaire de la seconde direction sur le substrat (170).
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)