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1. (WO2016005420) PROCÉDÉ DE DÉTECTION DE DÉFAUTS AFFECTANT DES SUBSTRATS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication : WO/2016/005420 N° de la demande internationale : PCT/EP2015/065542
Date de publication : 14.01.2016 Date de dépôt international : 08.07.2015
CIB :
G03F 1/84 (2012.01)
Déposants : CARL ZEISS SMT GMBH[DE/DE]; Rudolf-Eber-Straße 2 73447 Oberkochen, DE
CARL ZEISS AG[DE/DE]; Carl-Zeiss-Strasse 22 73447 Oberkochen, DE
Inventeurs : PETERS, Jan Hendrik; DE
BLUMRICH, Frederik; DE
SEIDEL, Dirk; DE
HUSEMANN, Christoph; DE
Mandataire : RAU, SCHNECK & HÜBNER PATENTANWÄLTE RECHTSANWÄLTE PARTGMBB; Königstrasse 2 90402 Nürnberg, DE
Données relatives à la priorité :
10 2014 213 198.708.07.2014DE
Titre (EN) METHOD FOR LOCALIZING DEFECTS ON SUBSTRATES
(FR) PROCÉDÉ DE DÉTECTION DE DÉFAUTS AFFECTANT DES SUBSTRATS
(DE) VERFAHREN ZUR LOKALISIERUNG VON DEFEKTEN AUF SUBSTRATEN
Abrégé : front page image
(EN) In a method for localizing defects (31) on a substrate (2) for EUV masks, phase contrast optics having a phase mask (11) are used for examining the substrate (2).
(FR) L'invention concerne un procédé de détection de défauts (31) affectant un substrat (2) pour masques de lithographie extrême ultraviolet (EUV), selon lequel on a recours à une optique à contraste de phase pourvue d'un masque à décalage de phase (11) aux fins d'examen du substrat (2).
(DE) Bei einem Verfahren zur Lokalisierung von Defekten (31) auf einem Substrat (2) für EUV-Masken wird zur Untersuchung des Substrats (2) eine Phasenkontrastoptik mit einer Phasenmaske (11) eingesetzt.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)