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1. (WO2016005117) APPAREIL LITHOGRAPHIQUE ET PROCÉDÉ
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication : WO/2016/005117 N° de la demande internationale : PCT/EP2015/062504
Date de publication : 14.01.2016 Date de dépôt international : 04.06.2015
CIB :
G03F 7/20 (2006.01) ,G03F 1/00 (2012.01)
Déposants : ASML NETHERLANDS B.V.[NL/NL]; P.O. Box 324 5500 AH Veldhoven, NL
Inventeurs : KERSSEMAKERS, Sander; NL
DE BOEIJ, Wilhelmus, Petrus; NL
DE LANGE, Gerben, Frank; NL
HOOGENDAM, Christiaan, Alexander; NL
VAN GILS, Petrus, Franciscus; NL
KAMMINGA, Jelmer, Mattheüs; NL
KUIT, Jan Jaap; NL
SCHOORMANS, Carolus, Johannes, Catharina; NL
Mandataire : PJANOVIC, Ilija; NL
Données relatives à la priorité :
14176184.108.07.2014EP
14184775.615.09.2014EP
Titre (EN) LITHOGRAPHIC APPARATUS AND METHOD
(FR) APPAREIL LITHOGRAPHIQUE ET PROCÉDÉ
Abrégé : front page image
(EN) A lithographic apparatus comprising a support structure configured to be moved by a first scan distance during a single scanning operation when supporting a patterning device having a first extent in the scanning direction and to be moved by a second scan distance during a single scanning operation when supporting a patterning device having a second extent in the scanning direction, and a substrate table configured to be moved by a third scan distance during a single scanning operation when the support structure supports a patterning device having the first extent in the scanning direction and to be moved by a fourth scan distance during a single scanning operation when the support structure supports a patterning device having the second extent in the scanning direction.
(FR) La présente invention a trait à un appareil lithographique qui comprend : une structure de support conçue pour se déplacer sur une première distance de balayage au cours d'une opération de balayage unique lorsqu'elle porte un dispositif de formation de motif ayant une première étendue dans la direction de balayage, et pour se déplacer sur une deuxième distance de balayage au cours d'une opération de balayage unique lorsqu'elle porte un dispositif de formation de motif ayant une seconde étendue dans la direction de balayage; ainsi qu'une table de substrat prévue pour se déplacer sur une troisième distance de balayage au cours d'une opération de balayage unique lorsque la structure de support porte un dispositif de formation de motif ayant la première étendue dans la direction de balayage, et pour se déplacer sur une quatrième distance de balayage au cours d'une opération de balayage unique lorsque la structure de support porte un dispositif de formation de motif ayant la seconde étendue dans la direction de balayage.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)