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1. (WO2016004550) INTERFÉROMÈTRE À DIFFRACTION À DOUBLE STÉNOPÉ À DÉPHASAGE ET À GRANDE OUVERTURE NUMÉRIQUE ET PROCÉDÉ D'ESSAI ASSOCIÉ
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/004550    N° de la demande internationale :    PCT/CN2014/000951
Date de publication : 14.01.2016 Date de dépôt international : 27.10.2014
CIB :
G01B 9/02 (2006.01)
Déposants : CHANGCHUN INSTITUTE OF OPTICS, FINE MECHANICS AND PHYSICS, CHINESE ACADEMY OF SCIENCES [CN/CN]; No. 3888 Dongnanhudalu Changchun, Jilin 130033 (CN).
VTT-NTM OÜ [EE/EE]; Riia mnt. 185a EE51014 Tartu (EE)
Inventeurs : NIKOLAY, Voznesenskiy; (EE).
MA, Dongmei; (CN).
JIN, Chunshui; (CN).
ZHANG, Haitao; (CN).
YU, Jie; (CN).
MARIIA, Voznesenskaia; (EE).
TATIANA, Voznesenskaia; (EE).
ZHANG, Wenlong; (CN)
Mandataire : CHANGCHUN JINGHUA PATENT TRADEMARK AGENT LAW OFFICE; (CN)
Données relatives à la priorité :
201410318139.0 07.07.2014 CN
Titre (EN) LARGE-NUMERICAL-APERTURE PHASE-SHIFTING DOUBLE-PINHOLE DIFFRACTION INTERFEROMETER AND TESTING METHOD THEREOF
(FR) INTERFÉROMÈTRE À DIFFRACTION À DOUBLE STÉNOPÉ À DÉPHASAGE ET À GRANDE OUVERTURE NUMÉRIQUE ET PROCÉDÉ D'ESSAI ASSOCIÉ
(ZH) 大数值孔径移相式双针孔衍射干涉仪及其测试方法
Abrégé : front page image
(EN)A large-numerical-aperture phase-shifting double-pinhole diffraction interferometer and testing method thereof, the diffraction interferometer comprising a test reference optical path (21), a test optical path (22) and a pinhole substrate (14); the pinhole substrate (14) is provided with a test pinhole (24) and a test reference pinhole (23) thereon; the diffraction wavefront emitted by the test pinhole (24) is reflected by an optical element assembly (19) to be tested adjacent to the pinhole substrate (14) and is converged adjacent to the test reference pinhole (23); and the wavefront carries surface shape information of the optical element assembly (19) to be tested, and after being reflected by the pinhole substrate (14), forms interference fringe with the diffraction wavefront emitted by the test reference pinhole (23).
(FR)L'invention concerne un interféromètre à diffraction à double sténopé à déphasage et à grande ouverture numérique et un procédé d'essai associé, l'interféromètre à diffraction comprenant un chemin optique de référence d'essai (21), un chemin optique d'essai (22) et un substrat à sténopés (14); le substrat à sténopés (14) est pourvu d'un sténopé d'essai (24) et d'un sténopé de référence d'essai (23) sur celui-ci; le front d'onde de diffraction émis par le sténopé d'essai (24) est réfléchi par un ensemble élément optique (19) à tester adjacent au substrat à sténopés (14) et est amené à converger de façon adjacente au sténopé de référence d'essai (23); et le front d'onde comporte des informations de forme de la surface de l'ensemble élément optique (19) à tester, et après avoir été réfléchi par le substrat à sténopés (14), forme une frange d'interférence avec le front d'onde de diffraction émis par le sténopé de référence d'essai (23).
(ZH)一种大数值孔径移相式双针孔衍射于涉仪及其测试方法,该衍射干涉仪包括:测试基准光路(21),测试光路(22),针孔基板(14);所述针孔基板(14)上设有测试针孔(24)和测试基准针孔(23);在所述测试针孔(24)发出的衍射波前经所述针孔基板(14)附近的被测试光学元部件(19)反射后会聚到测试基准针孔(23)附近,其波前中带有被测试光学元部件(19)的面形信息,其经过针孔基板(14)反射后与由测试基准针孔(23)发出的衍射波前千涉形成干涉条纹。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : chinois (ZH)
Langue de dépôt : chinois (ZH)