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1. (WO2016003867) SYSTÈME DE RÉSINE DE POLYESTER INSATURÉ, EXEMPT DE COBALT, PRÉACTIVÉ POUR PIERRE ARTIFICIELLE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/003867    N° de la demande internationale :    PCT/US2015/038250
Date de publication : 07.01.2016 Date de dépôt international : 29.06.2015
CIB :
C04B 26/02 (2006.01)
Déposants : ASHLAND LICENSING AND INTELLECTUAL PROPERTY LLC [US/US]; 5200 Blazer Parkway Dublin, OH 43017 (US)
Inventeurs : PERAIRE, José, Luis, Miquel; (ES).
DE ALDA MADORRAN, Javier, Lopez; (ES).
SJÖBERG, Tuomo; (FI)
Mandataire : DAVIS, William, J.; (US)
Données relatives à la priorité :
14175272.5 01.07.2014 EP
Titre (EN) COBALT FREE PREPROMOTED UNSATURATED POLYESTER RESIN SYSTEM FOR ENGINEERED STONE
(FR) SYSTÈME DE RÉSINE DE POLYESTER INSATURÉ, EXEMPT DE COBALT, PRÉACTIVÉ POUR PIERRE ARTIFICIELLE
Abrégé : front page image
(EN)The invention relates to a formable composition for the preparation of engineered stone comprising a cobalt free prepromoted unsaturated polyester resin system, an inorganic particulate material and a peroxide component. The invention also relates to a method for the preparation of engineered stone as well as to the use of the cobalt free prepromoted unsaturated polyester resin system for the preparation of engineered stone.
(FR)L'invention concerne une composition pouvant être façonnée pour la préparation de pierre artificielle comprenant un système de résine de polyester insaturé, exempt de cobalt, préactivé, un matériau particulaire inorganique et un composant peroxyde. L'invention concerne également un procédé pour la préparation de pierre artificielle ainsi que l'utilisation du système de résine de polyester insaturé, exempt de cobalt, préactivé pour la préparation de pierre artificielle.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)