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1. (WO2016003792) MICROSTRUCTURES MÉTALLIQUES À VISIBILITÉ RÉDUITE ET LEURS PROCÉDÉS DE PRODUCTION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication : WO/2016/003792 N° de la demande internationale : PCT/US2015/037929
Date de publication : 07.01.2016 Date de dépôt international : 26.06.2015
CIB :
H05K 1/02 (2006.01) ,H05K 3/06 (2006.01)
Déposants : 3M INNOVATIVE PROPERTIES COMPANY[US/US]; 3M Center Post Office Box 33427 Saint Paul, Minnesota 55133-3427, US
Inventeurs : STAY, Matthew S.; US
SMITH, Matthew R.; US
PEKUROVSKY, Mikhail L.; US
STRAND, John T.; US
DAVID, Moses M.; US
JERRY, Glen A.; US
STARKEY, James R.; US
KAWAKAMI, Ellison; US
STENSVAD, Karl K.; US
Mandataire : DONG, Yufeng; US
Données relatives à la priorité :
62/018,71730.06.2014US
Titre (EN) METALLIC MICROSTRUCTURES WITH REDUCED-VISIBILITY AND METHODS FOR PRODUCING SAME
(FR) MICROSTRUCTURES MÉTALLIQUES À VISIBILITÉ RÉDUITE ET LEURS PROCÉDÉS DE PRODUCTION
Abrégé : front page image
(EN) Electrically conductive patterns formed on a substrate are provided with a reduced visibility. A region of a major surface of the substrate is selectively roughened to form a roughened pattern on the major surface of the substrate. Electrically conductive traces are directly formed on the roughened region and are conformal with the roughened pattern on the major surface of the substrate.
(FR) L'invention concerne des motifs électriquement conducteurs formés sur un substrat ayant une visibilité réduite. Une région d'une surface principale du substrat est sélectivement rendue rugueuse pour former un motif rugueux sur la surface principale du substrat. Des traces électriquement conductrices sont formées directement sur la région rugueuse et suivent le motif rendue rugueuse sur la surface principale du substrat.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)